자료유형
발행기관
- 한국전기전자재료학회(18)
- 대한전기학회(5)
- 대한전자공학회(4)
- 한국표면공학회(4)
- 한국결정성장학회(3)
- 한국세라믹학회(3)
- 한국진공학회(3)
- 제어로봇시스템학회(2)
- 한국식물병리학회(2)
- 한국탄소학회(2)
- 대한기계학회(1)
- 대한생리학회(1)
- 대한생리학회-대한약리학회(1)
- 대한치과교정학회(1)
- 인문사회과학기술융합학회(1)
- 한국동굴학회(1)
- 한국마이크로전자및패키징학회(1)
- 한국반도체및디스플레이장비학회(1)
- 한국열환경공학회(1)
- 한국재료학회(1)
- 한국전자통신연구원(1)
- 한국정보디스플레이학회(1)
간행물
- TRANSACTIONS ON ELECTRICAL AND ELECTRONIC MATERIALS(11)
- 전기전자재료학회논문지(6)
- 전기학회논문지. THE TRANSACTIONS OF THE KOREAN INSTITUTE OF ELECTRICAL ENGINEERS. C/ C, 전기물성-응용부문(4)
- 한국표면공학회지(4)
- 한국결정성장학회지(3)
- 한국세라믹학회지(3)
- CARBON LETTERS(2)
- JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE(2)
- THE PLANT PATHOLOGY JOURNAL (2)
- 한국진공학회지(2)
- APPLIED SCIENCE AND CONVERGENCE TECHNOLOGY(1)
- ETRI JOURNAL(1)
- INTERNATIONAL JOURNAL OF CONTROL, AUTOMATION AND SYSTEMS(1)
- JOURNAL OF INFORMATION DISPLAY(1)
- JOURNAL OF THE INSTITUTE OF ELECTRONICS ENGINEERS OF KOREA(1)
- THE KOREAN JOURNAL OF ORTHODONTICS(1)
- THE KOREAN JOURNAL OF PHYSIOLOGY & PHARMACOLOGY(1)
- 대한기계학회론문집. TRANSACTIONS OF THE KOREAN SOCIETY OF MECHANICAL ENGINEERS. B. B(1)
- 대한생리학회지(1)
- 동굴 : 한국동굴학회지(1)
- 마이크로전자 및 패키징 학회지(1)
- 열환경공학(1)
- 예술인문사회융합멀티미디어논문지(1)
- 전기전자재료(1)
- 전기학회논문지= THE TRANSACTIONS OF THE KOREAN INSTITUTE OF ELECTRICAL ENGINEERS(1)
- 전자공학회논문지(1)
- 제어-자동화-시스템공학 논문지(1)
- 한국반도체장비학회지(1)
- 한국재료학회지(1)
전체 선택해제
총 58건 검색
본문검색 결과만 보기
-
Capacitively Coupled Plasma Source를 이용한 Etcher의 상부 전극 온도 변화에 따른 Etch 특성 변화 개선
신한수, 노용한, 이내응, Shin. Han-Soo, Roh. Yong-Han, Lee. Nae-Eung 한국진공학회 韓國眞空學會誌 5 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2011, Vol.20 No.5 322-326 (5 pages)
가 직접 인가되는 capacitively coupled plasma source를 이용한 oxide layer etching 공정은 현재 반도체 제조 공정에서 매우 유용하게 사용되고 있는 방식이다. 그러나 디바이스의 사이즈가 점점 작아지면서 공정을 진행하기 위한 RF power도 커지고, plasma ignition 되는 electrode 사이의 간격도 점점 좁아지는 기술적 변화가 이루어지고 있다. 이러한 H/W의 변화에 따라 예상치 못한 문제들로 공정을 적용하는데 많은 문제점이 발생하고 있는데, 공정 진행 시에 plasma의 영향으로 인한 electrode의 온도 변화도 그 중 하나이다.... -
Plasma Etch Damage가 (100) SOI에 미치는 영향의 C-V 특성 분석
조영득, 김지홍, 조대형, 문병무, 조원주, 정홍배, 구상모, Jo. Yeong-Deuk, Kim. Ji-Hong, Cho. Dae-Hyung, Moon. Byung-Moo, Cho. Won-Ju, Chung. Hong-Bay, Koo. Sang-Mo 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 4 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2008, Vol.21 No.8 711-714 (4 pages)
-
The Use of Inductively Coupled CF4/Ar Plasma to Improve the Etch Rate of ZrO2 Thin Films
Kim. Han-Soo, Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2013, Vol.14 No.1 12-15 (4 pages)
-
Etch Properties of HfO2 Thin Films using CH4/Ar Inductively Coupled Plasma
Woo. Jong-Chang, Kim. Gwan-Ha, Kim. Dong-Pyo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 5 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2007, Vol.8 No.6 229-233 (5 pages)
-
Etch Rate Dependence of Differently Doped Poly-Si Films on the Plasma Parameters
박성호, 김윤태, 김진섭, 김보우, 마동성, Park. Sung-Ho, Kim. Youn-Tae, Kim. Jin-Sup, Kim. Bo-Woo, Ma. Dong-Sung 대한전자공학회 전자공학회논문지 8 Pages
대한전자공학회 전자공학회논문지 1988, Vol.25 No.11 1342-1349 (8 pages)
플리즈마 변수로서 가스조성과 압력 및 RF 전력이 인 및 붕소가 각각 다른 양으로 주입된 다결정 실리콘의 식각율 변화에 미치는 영향을 고찰하였다. $POCl_3$에 의해 인이 주입된 경우, 염소조성보다 불소조성이 많은 영역, 즉 $Cl_2$와 $SF_4$의 비가 17대 33일 때, 가장 큰 비등방성과 가장 작은 선폭손실을 달성하였다. 플라즈마 조건에 관계없이 주입된 불순물 농도의 증가에 다라, 인이 주입된 경우는 식각율이 증가하였고, 붕소가 주입된 경우는 식각율이 반대로 감소하였다. 또한, 급속 열처리에 의한 활성화 시간의 함수로서... -
Real-time In-situ Plasma Etch Process Monitoring for Sensor Based-Advanced Process Control
Ahn. Jong-Hwan, Gu. Ja-Myong, Han. Seung-Soo, Hong. Sang-Jeen 대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science 5 Pages
대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science 2011, Vol.11 No.1 1-5 (5 pages)
-
Investigation on Suppression of Nickel-Silicide Formation By Fluorocarbon Reactive Ion Etch (RIE) and Plasma-Enhanced Deposition
Kim. Hyun Woo, Sun. Min-Chul, Lee. Jung Han, Park. Byung-Gook 대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science 6 Pages
대한전자공학회 Journal of semiconductor technology and science 2013, Vol.13 No.1 22-27 (6 pages)
-
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
조수범, 김진우, 정재성, 오범환, 박세근, 이종근 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 6 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2002, Vol.15 No.3 227-232 (6 pages)
-
Dry Etching Properties of HfAlO3 Thin Film with Addition O2 gas Using a High Density Plasma
Woo. Jong-Chang, Lee. Yong-Bong, Kim. Jeong-Ho 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 6 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2014, Vol.15 No.3 164-169 (6 pages)
-
The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Park. Jung-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2011, Vol.12 No.4 144-147 (4 pages)
-
Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl2-Based Plasma
Woo. Jong-Chang, Ha. Tae-Kyung, Li. Chen, Kim. Seung-Han, Park. Jung-Soo, Heo. Kyung-Mu, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2011, Vol.12 No.2 60-63 (4 pages)
-
Etching Characteristics of HfAlO3 Thin Films Using an Cl2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Ha. Tae-Kyung, Woo. Jong-Chang, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2010, Vol.11 No.4 166-169 (4 pages)
-
Dry Etching of Al2O3 Thin Films in O2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Yang. Xeng, Woo. Jong-Chang, Um. Doo-Seung, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2010, Vol.11 No.5 202-205 (4 pages)
-
Molecular Association of Glucose Transporter in the Plasma Membrane of Rat Adipocyte
Hah, Jong-Sik 대한생리학회 대한생리학회지 10 Pages
대한생리학회 대한생리학회지 1991, 제 25권 제 2호 2 115-124 (10 pages)
Molecular association of glucose transporters with the other proteins in the plasma membrane was assessed by gel electrophoresis and immunoblot techniques. Approximately 31.5±5.1% of GLUT-4, 64.8±2.7% of clathrin, 48.7% of total protein in the plasma membrane (PM) were found insoluble upon extraction with 1% Tx-100. Sodium dodecyl sulfate polyacrylamide gel electrophoresis revealed that the Tx-100 insoluble PM fraction contained about 4 major polypeptides with apparent molecular weight of... -
TiN Ion-Plating이 교정용 브라켓의 접착강도에 미치는 영향
김석용(Seok-Yong KIM), 권오원(Oh-Won KWON), 김교환(Kyo-Han KIM) 대한치과교정학회 The Korean Journal of Orthodontics 15 Pages
대한치과교정학회 The Korean Journal of Orthodontics 1997, 제 27권 제 1호 13 157-171 (15 pages)
TiN ion-plating이 교정용 브라켓의 접착강도에 미치는 영향을 알아보기 위하여 세 종류의 서로 다른 기저면형태를 가지는 스테인레스 스틸제의 브라켓을 선택하고, TiN ion-plating 된 브라켓과 ion-plating 되지 않은 브라켓을 치아에 접착시켰을 때 초기 및 장기 접착강도, 접착계면의 주사전자현미경 관찰, 파단면의 주사전자 현미경과 관찰을 비교 분석하여 다음과 같은 결론을 얻었다. • TiN ion-plating을 하지 않은 경우 24시간 후의 접착강도는 Micro-Loc 형이 5.89±1.77 MPa, Foil Mesh 4.27±1.12 MPa,... -
Resistance to Turnip Mosaic Virus in the Family Brassicaceae
Peter Palukaitis, Su Kim 한국식물병리학회 The Plant Pathology Journal 23 Pages
한국식물병리학회 The Plant Pathology Journal 2021, 37권 1호 1 1-23 (23 pages)
Resistance to diseases caused by turnip mosaic virus (TuMV) in crop species of the family Brassicaceae has been studied extensively, especially in members of the genus Brassica. The variation in response observed on resistant and susceptible plants inoculated with different isolates of TuMV is due to a combination of the variation in the plant resistome and the variation in the virus genome. Here, we review the breadth of this variation, both at the level of variation in TuMV sequences, with one... -
The Plant Cellular Systems for Plant Virus Movement
한국식물병리학회 The Plant Pathology Journal 16 Pages
한국식물병리학회 The Plant Pathology Journal 2017, 33권 3호 1 213-228 (16 pages)
Plasmodesmata (PDs) are specialized intercellular channels that facilitate the exchange of various molecules, including sugars, ribonucleoprotein complexes, transcription factors, and mRNA. Their diameters, estimated to be 2.5 nm in the neck region, are too small to transfer viruses or viral genomes. Tobacco mosaic virus and Potexviruses are the most extensively studied viruses. In viruses, the movement protein (MP) is responsible for the PD gating that allows the intercellular movement of viral...
