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Sputtering 성막속도가 박막의 특성에 미치는 영향
이기암, Lee. Ky-Am 한국진공학회 韓國眞空學會誌 9 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 1993, Vol.2 No.2 152-160 (9 pages)
본 연구에서는 DC magnetron sputtering 장비를 이용하여, GdFe, Co, CoCr 박막을 제작함에 있어서 sputtering 조건에 관계되는 Ar 압력, 투입전력, 기판의 종류 등의 요소가 박막의 특성, 특히 보자력과 미세구조에 미치는 영향을 관찰하였다. GdFe의 경우 성막속도가 증가함에 따라 Gd의 atomic%가 줄어드는 것을 알 수 있었으며, Ar압력이 증가함에 따라 성막속도는 감소하였고, 투입전력이 증가함에 따라 성막속도는 거의 선형적으로 증가함을 알 수 있다. 또한 투입전력이 증가함에 따라 박막의 보자력도 증가함을 알 수 있었다. Co... -
PES 기판위에 제작한 Ga-doped ZnO 박막의 전기적 및 광학적 특성
정윤근, 정양희, 강성준, Chung. Yeun-Gun, Joung. Yang-Hee, Kang. Seong-Jun 한국정보통신학회 한국해양정보통신학회논문지 5 Pages
한국정보통신학회 한국해양정보통신학회논문지 2011, Vol.15 No.7 1559-1563 (5 pages)
본 연구에서는 고주파 마그네트론 스퍼터링 (RF magnetron sputtering) 법으로 기판 온도 ($50{sim}200^{circ}C$)에 따른 GZO(Ga : 5 wt%) 박막을 PES (polyethersulfon) 플라스틱 기판위에 제작하여, 광학적 및 전기적 특성을 조사하였다. XRD 측정을 통해 공정 조건에 관계없이 모든 GZO 박막이 c축으로 우선 성장함을 확인할 수 있었다. 박막의 표면을 AFM 으로 조사한 결과, 표면 거칠기 값은 기판 온도 $200^{circ}C$ 에서 제작한 박막에서 가장 낮은 값 (0.196 nm) 을 나타내었다. 투과도 측정 결과, GZO 박막은 약 80% 이상의... -
RF 파워 변화에 따른 ITZO (In-Sn-Zn-O) 박막의 전기적, 광학적, 구조적 특성
서진우, 정양희, 강성준, Seo. Jin-Woo, Joung. Yang-Hee, Kang. Seong-Jun 한국정보통신학회 한국정보통신학회논문지 7 Pages
한국정보통신학회 한국정보통신학회논문지 2014, Vol.18 No.2 394-400 (7 pages)
본 연구에서는 고주파 마그네트론 스퍼터링 법으로 상온에서 RF 파워를 30 에서 60W 로 변화시켜가며 유리기판 위에 ITZO 박막을 제작하여 전기적, 광학적, 구조적 특성을 조사하였다. RF 파워 50W 에서 증착한 ITZO 박막이 $10.52{ imes}10^{-3}{Omega}^{-1}$의 제일 큰 재료평가지수를 나타내었으며, 이때 $3.08{ imes}10^{-4}{Omega}-cm$의 비저항과 $11.41{Omega}/sq.$의 면저항으로 가장 우수한 전기적 특성을 보였다. 광학적 특성을 측정한 결과, 가시광 영역 (400~800 nm) 에서의 평균 투과도는 모든 ITZO 박막에서 80 % 이상으로... -
투명 사파이어 기판위에 성장시킨 Ga-doped ZnO 박막의 전기적·광학적 특성
정윤근, 정양희, 강성준, Chung. Yeun Gun, Joung. Yang Hee, Kang. Seong Jun 한국정보통신학회 한국정보통신학회논문지 6 Pages
한국정보통신학회 한국정보통신학회논문지 2013, Vol.17 No.5 1213-1218 (6 pages)
본 연구에서는 고주파 마그네트론 스퍼터링법으로 기판온도 변화에 따른 GZO 박막을 투명 사파이어 기판위에 제작하여, 박막의 전기적 광학적 특성 및 결정화 특성을 조사하였다. 전기적 특성을 조사한 결과, 기판온도 $300^{circ}C$에서 가장 낮은 $4.18{ imes}10^{-4}{Omega}cm$의 비저항을 나타내었고, 이때의 캐리어 농도는 $6.77{ imes}10^{20}cm^{-3}$, 홀 이동도는 $22cm^2/Vs$를 나타내었다. 또한 이 조건에서 가장 큰 c-축 배향성을 얻을 수 있었고, 그 때의 반가폭은 $0.34^{circ}$이었다. AFM 표면형상에서도 기판온도... -
Prediction of TiN Coating Adhesion Strength on Aerospace AL7075-T6 Alloy Using Fuzzy Rule Based System
Zalnezhad. Erfan, Sarhan. Ahmed Aly Diaa Mohammed, Hamdi. Mohd 한국정밀공학회 International journal of precision engineering and manufacturing 7 Pages
한국정밀공학회 International journal of precision engineering and manufacturing 2012, Vol.13 No.8 1453-1459 (7 pages)
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구리-바나듐 산화물 박막의 양극 특성 및 전 고상 전지의 제작
임영창, 남상철, 박호영, 윤영수, 조원일, 조병원, 전해수, 윤경석, Lim. Y. C., Nam. S. C., Park. H. Y., Yoon. Y. S., Cho. W. I., CHo. B. W., Chun. H. S., Yun. K. S. 한국전기화학회 전기화학회지 5 Pages
한국전기화학회 전기화학회지 2000, Vol.3 No.4 219-223 (5 pages)
구리-바나듐 산화물 양극을 이용하여 $(Cu_{0.5}V_2O_5)$으로 구성된 전 고상의 리튬이차박막전지를 제작하였다. 구리-바나듐 산화물 박막은 reactive DC magnetron sputtering을 이용하여 co-sputtering에 의해 제조하였고 Lipon고체전해질은 순수한 질소 분위기 하에서 RF 스퍼터링으로 제조하였다. XRD분석을 통해 구리-바나듐 산화물 박막이 비정질임을 확인하였고, EC:DMC(1:1 in IM $LiPF_5$)액체전해질을 사용한 반전지 구조에서 그 전기화학적 특성을 고찰하였다. Lipon고체전해질의 이온전도도는 $25^{circ}C$에서 $1.02... -
Ex-situ 스퍼터링법에 의한 $V_2O_5$ 전 고상 박막전지의 전기화학적 특성
임영창, 남상철, 전은정, 윤영수, 조원일, 조병원, 전해수, 윤경석, Lim. Y.C., Nam. S.C., Jeon. E.J., Yoon. Y.S., Cho. W.I., Cho. B.W., Chun. H.S., Yun. K.S. 한국전기화학회 전기화학회지 5 Pages
한국전기화학회 전기화학회지 2000, Vol.3 No.1 44-48 (5 pages)
상온에서 DC-magnetron sputtering으로 증착한 비정질의 $V_2O_5$ 박막을 양극물질로 하여 $V_2O_5/LIPON/Li$으로 구성된 박막형 리튬이차전지를 제작하였다. $V_2O_5$의 양극특성은 액체전해질을 이용한 half cell 구조에서 평가하였으며, $Ar/O_2$ 분압비의 변화에 따라 제작된 $V_2O_5$ 양극은 분압비 80/20에서 가장 좋은 특성을 보였다. 자체 제작한 $Li_3PO_4$ 타겟을 사용하여 RF-sputtering으로 순수한 질소 분위기 하에서 양극 위에 고체전해질 LIPON 박막을 형성하였으며, 1.2-4.0V vs. Li 구간에서 리튬에 대해 반응성이 없는... -
급속 열처리 방법에 의한 Al-doped Zinc Oxide (AZO) Films의 제조 및 특성 평가
김성진, 최균, 최세영, Kim. Sung-Jin, Choi. Kyoon, Choi. Se-Young 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 9 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2012, Vol.25 No.7 543-551 (9 pages)
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ZnO-SnO2 투명박막트랜지스터의 특성에 미치는 산소분압 및 후속열처리의 영향
마대영, Ma. Tae-Young 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 5 Pages
한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 2012, Vol.25 No.4 304-308 (5 pages)