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11.

Ti/Si의 조성비율이 다른 타겟을 이용한 sputtered Ti-Si-N 박막의 증착특성 연구

박상기, 강봉주, 양희정, 이원희, 이은구, 김희재, 이재갑, Park. Sang-Gi, Kang. Bong-Joo, Yang. Hee-Jeong, Lee. Won-Hee, Lee. Eun-Goo, Kim. Hee-Jae, Lee. Jae-Gap 한국재료학회 한국재료학회지 5 Pages

한국재료학회 한국재료학회지 2001, Vol.11 No.7 580-584 (5 pages)

박상기, 강봉주, 양희정, 이원희, 이은구, 김희재, 이재갑, Park. Sang-Gi, Kang. Bong-Joo, Yang. Hee-Jeong, Lee. Won-Hee, Lee. Eun-Goo, Kim. Hee-Jae, Lee. Jae-Gap 저

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$Ar/N_2$의 혼합기체를 사용하여 rf magnetron sputtering방법으로 증착된 Ti-Si-N박막의 증착특성에 대해 연구하였다. Ti-Si-N박막의 조성과 증착률은 각 타 Ti/Si의 비율과 증착시의 질소기체의 유량에 따라 크게 변하였다. 이것은 Ti과 Si의 nitriding 정도의 차이로 인한 서로 다른 sputter yield에 의한 것으로 나타났다. Si이 비교적 적게 포함된 Ti-Si-N박막은 증착시부터 박막내 TiN의 결정화가 일어났으며, 낮은 비저항을 나타내었다. N의 함량의 증가는 박막의 밀도와 압축응력을 증가시켜 Ti-Si-N박막의 확산방지 능력에 큰...
12.

A serine/threonine phosphatase 1 of Streptococcus suis type 2 is an important virulence factor

Lihua Fang, Jingjing Zhou, Pengcheng Fan, Yunkai Yang, Hongxia Shen, Weihuan Fang 대한수의학회 Journal of Veterinary Science 9 Pages

대한수의학회 Journal of Veterinary Science 2017, 제 18권 제 4호 3 439-447 (9 pages)

Lihua Fang, Jingjing Zhou, Pengcheng Fan, Yunkai Yang, Hongxia Shen, Weihuan Fang 저
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Streptococcus suis is regarded as one of the major pathogens of pigs, and Streptococcus suis type 2 (SS2) is considered a zoonotic bacterium based on its ability to cause meningitis and streptococcal toxic shock-like syndrome in humans. Many bacterial species contain genes encoding serine/threonine protein phosphatases (STPs) responsible for dephosphorylation of their substrates in a single reaction step. This study investigated the role of stp1 in the pathogenesis of SS2. An isogenic stp1...
13.

Involvement of ERK1/2 and JNK Pathways in 17β-estradiol Induced Kir6.2 and SK2 Upregulation in Rat Osteoblast-like Cells

Jung-WookKim, Eun-KyoungYang 대한생리학회-대한약리학회 The Korean Journal of Physiology & Pharmacology 8 Pages

대한생리학회-대한약리학회 The Korean Journal of Physiology & Pharmacology 2006, Vol.10 No.4 6 199-206 (8 pages)

Jung-WookKim, Eun-KyoungYang 저
...
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The functional expression of potassium (K⁢) channels has electrophysiologically been studied in bone cells from several species, however, their identity and regulation of gene expressions in bone cells are not well known. In the present study, to investigate how K⁢ channel expressions are regulated by estrogen, we measured changes of transcript levels of various Ca2⁢-activated (KCa) and ATP-sensitive K⁢ channels in rat osteoblastic ROS 17/2.8 cells after treatment with...
14.

고밀도 유도 결합 플라즈마 장치의 SiH4/O2/Ar 방전에 대한 공간 평균 시뮬레이터 개발

배상현, 권득철, 윤남식, Bae. S.H., Kwon. D.C., Yoon. N.S. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 9 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2008, Vol.17 No.5 426-434 (9 pages)

배상현, 권득철, 윤남식, Bae. S.H., Kwon. D.C., Yoon. N.S. 저

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고밀도 유도결합 플라즈마 장치의 $SiH_4/O_2/Ar$방전에 대한 공간 평균 시뮬레이터를 제작하였다. 제작된 시뮬레이터는 $SiH_4/O_2/Ar$ 플라즈마 방전에서 발생되는 전자, 양이온, 음이온, 중성종, 그리고 활성종들에 대해 공간 평균한 유체 방정식을 기반으로 하고 있으며, 전자가열 모델은 anomalous skin effect를 고려한 파워 흡수 모델을 적용하여 전자가 흡수하는 고주파 파워량을 결정하였다. 완성된 시뮬레이터에서 RF-파워와 압력 변화에 대한 하전입자, 중성종, 활성종들의 밀도 변화 및 전자 온도 의존성을 계산하였다.
15.

The Dry Etching Characteristics of TiO2 Thin Films in N2/CF4/Ar Plasma

Choi. Kyung-Rok, Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Chun. Yoon-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 5 Pages

한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2014, Vol.15 No.1 32-36 (5 pages)

Choi. Kyung-Rok, Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Chun. Yoon-Soo, Kim. Chang-Il 저

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16.

친전자성 치환반응을 위한 $[^{18}F]F_2$ Gas의 생산 연구

문병석, 김재홍, 이교철, 안광일, 천기정, 전권수, Moon. Byung-Seok, Kim. Jae-Hong, Lee. Kyo-Chul, An. Gwang-Il, Cheon. Gi-Jeong, Chun. Kwon-Soo 대한핵의학회 핵의학 분자영상 5 Pages

대한핵의학회 핵의학 분자영상 2006, Vol.40 No.4 228-232 (5 pages)

문병석, 김재홍, 이교철, 안광일, 천기정, 전권수, Moon. Byung-Seok, Kim. Jae-Hong, Lee. Kyo-Chul, An. Gwang-Il, Cheon. Gi-Jeong, Chun. Kwon-Soo 저

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재사용을 위하여 냉각포획법으로 회수하였으며, $^{18}F$를 회수하기 위해 $[^{19}F]F_2/Ar$ 가스를 충진한 후, 두 번째 빔을 조사하여 방사성불소를 회수하는 방법으로 구성된다. 본 연구에서는 최적의 방사성불소 생산 조건을 찾기 위해 빔 조사 시간, 빔 전류 세기 농축 $[^{18}O]O_2$ 충진 압력 등의 변화에 따라 생산량을 평가하였다. 결과: 빔 조사 시간, 빔 전류, 농축 $[^{18}O]O_2$ 충진 압력 등의 조건을 변화시키면서 생산량을 평가한 결과 최적의 빔 조사 조건은 다음과 같다. 첫 번째 조사: 농축 $[^{18}O]O_2$을 약 15.0...
17.

Magnetron sputtering 법으로 제조된 Al-1%Cu/Tungsten Nitride 다층 박막

이기선, 김장현, 서수정, 김남철, Lee. Gi-Seon, Kim. Jang-Hyeon, Seo. Su-Jeong, Kim. Nam-Cheol 한국재료학회 한국재료학회지 5 Pages

한국재료학회 한국재료학회지 2000, Vol.10 No.9 624-628 (5 pages)

이기선, 김장현, 서수정, 김남철, Lee. Gi-Seon, Kim. Jang-Hyeon, Seo. Su-Jeong, Kim. Nam-Cheol 저

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디바이스의 전극재료로 사용되는 Al-%Cu(4000$AA$)/tungsten nitride 박막을 magnetron sputtering 법으로 제조하고 전기저항을 평가한 비정질상의 tungsten nitride 박막을 제조할 수 있었고, 비정질 형성을 위해 질소비(R =$N_2$/(Ar+$N_2$)가 10~40% 정도 필요하다. Tungsten nitride 박막의 잔류응력은 비정질이 형성되면서 급격히 감소되었다. 이러한 비정질 박막위에 Al-1%Cu 합금막이 형성되었다. 다층막은 453K에서 4시간 동안 열처리함으로써 $3.6{mu}{Omega}-cm$의 저항을 나타냈는데, 이는 박막내 결정립 성장과 결함의 감소에...
18.

크라이오 펌프를 이용한 스테인레스 스틸 고진공용기 배기에서 2차 냉각판 온도와 용기 내부의 기체 부분압 관계

홍승수, 임종연, 신용현, 정광화, Hong. S. S., Lim. J. Y., Shin. Y. H., Chung. K. H. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2004, Vol.13 No.4 139-144 (6 pages)

홍승수, 임종연, 신용현, 정광화, Hong. S. S., Lim. J. Y., Shin. Y. H., Chung. K. H. 저

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잔류기체의 부분압에 대한 관심이 높아지고 있다. 본 연구에서는 청정진공 발생에 많이 사용되고 있는 크라이오 펌프의 냉각판 온도에 따른 $H_2$, He, C, N, $O_2$, $H_2O$, Ar/2, $N_2$(CO), Ar, $CO_2$의 부분압을 잔류기체분석기로 측정하여 비교하였다. 크라이오 펌프를 켜고 약 72분이 지났을 때 펌프의 냉각판 온도가 12K에 도달하였으며, 25시간이 경과하여 온도가 충분하게 낮아졌을 때 부분압은 $H_2$, He, C, N, $O_2$, $H_2O$, Ar/2, $N_2$, Ar, $CO_2$순으로 24.9%, 6.6%, 5.5%, 2.2%, 3.8%, 30.7%, 6.5%, 6.1%, 5.5 %,...
19.

Ta/TaN 복합 다층 피막의 기계적 특성

강영권, 이종무, 최상욱, Gang. Yeong-Gwon, Lee. Jong-Mu, Choe. Sang-Uk 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages

한국재료학회 한국재료학회지 1999, Vol.9 No.8 837-842 (6 pages)

강영권, 이종무, 최상욱, Gang. Yeong-Gwon, Lee. Jong-Mu, Choe. Sang-Uk 저

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$N_2$/Ar 유량비가 0.4일 때 결정성이 가장 우수한 TaN 막이 얻어지며, Ta/TaN 복합다층피막의 경도 및 스크래치 테스트 결과도 가장 우수하였다. 또한 Ta/TaN 복합다층피막 증착후의 어닐링 처리 시 어닐링 온도가 증가할수록 피막의 경도와 접착성이 악화되었으며, compositional modulation wavelength가 감소함에 따라 Ta/TaN 복합다층피막의 경도는 증가하지만 접착성은 wavelength에 대한 의존성이 약하게 나타났다. 그리고 compositional gradient Ta-TaN 막 증착후의 어닐링 처리 시 경도와 스크래치 테스트 값은 각각...
20.

Cu 금속과 Si 기판 사이에서 확산방지막으로 사용하기 위한 Zr(Si)N 박막의 특성

김좌연, 조병철, 채상훈, 김헌창, 박경순 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 5 Pages

한국결정성장학회 한국결정성장학회지 2002, Vol.12 No.6 283-287 (5 pages)

김좌연, 조병철, 채상훈, 김헌창, 박경순 저

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$Ar/N_2$의 혼합 gas를 사용한 reactive sputtering 방법을 이용하였다. 상온에서 ZrN 박막 증착시 Ar gas와 NE gas 비율이 48 : 2일 때 가장 낮은 비저항값을 가졌으며, 증착시 기판의 온도의 증가에 따라서 비저항값이 낮아졌다. 비저항값이 감소된 ZrN 박막일수록 (002)면의 방향성을 갖는 결정이 성장되었다. ZrN 박막의 Cu 확산방지 특성은 ZrN 박막에 Si을 첨가함으로써 개선될 수 있으며 지나치게 첨가될 경우에는 오히려 확산방지 특성이 감소되었다. 접착력 특성에서는 ZrN에 Si의 함유량이 증가함에 파라 개선되었다. 증착막의...

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