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건식 식각기술의 동향분석
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  • 건식 식각기술의 동향분석
저자명
박성호,김진섭,강봉구,Park. Seong-Ho,Kim. Jin-Seop,Gang. Bong-Gu
간행물명
전자통신동향분석
권/호정보
1989년|4권 2호|pp.76-109 (34 pages)
발행정보
한국전자통신연구원
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

본 연구에서는 초고집적 반도체소자의 제작을 위한 건식 식각장비의 기술동향 분석과 식각공정에 대한 요구조건 추출 및 실제의 공정예를 검토함으로써 submicron급의 초미세형상을 가공하는데 이방성과 저손상의 중요한 특성을 갖는 ECR 플라즈마, 특히 저온의 식각방식이 차세대의 건식 식각장치의 주류가 될 것임을 예측하였다.