- 미세광리소그라피를 위한 위상변위 기술의 원리
- ㆍ 저자명
- 이상수
- ㆍ 간행물명
- 한국광학회지
- ㆍ 권/호정보
- 1992년|3권 1호|pp.63-66 (4 pages)
- ㆍ 발행정보
- 한국광학회
- ㆍ 파일정보
- 정기간행물| PDF텍스트
- ㆍ 주제분야
- 기타
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오늘날 16M-DRAM 나아가서 64M-DRAM 제작을 위한 미세광리소그라피에서 위상변조된 마스크를 이용하여 높은 해상도를 얻고자 하는 연구가 세계적으로 추진되고 있다. 이 방법의 원리를 소개 하고자 한다.