본연구에서는 HCl 또는 NH4OH로 산화막을 식각학 GaAs 표면에 H2S 가스를 이용하여 유황처 리하였다. 표면의 화학적 조성 및 결합상태를 측정하기 위하여 AES 및 XPS를 사용하였다. 시편들은 30,200 및 $350^{circ}C$로 가열하면서 H2S가스와 반응시켰다. 이때 유황은 GaAs 표면의 Ga 원자 및 As 원자 와 화학결합을 형성하고 있음이 밝혀졌다. 또한 $350^{circ}C$로 가열된 시편이 $30^{circ}C$ 또는 $200^{circ}C$로 가열된 시편 보다 표면에 결합된 유황의 양이 많은 것으로 나타났다. 아울러 (NH4)2S 수용액 또는 Na2S 수용액으로 유황처리된 경우와 동일하게 H2S 가스로 유황처리된 GaAs 표면에서는 Ga 산화막 및 As 산화막이 거 의 관측되지 않았다.