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SYNTHESIS OF CARBON NITRIDE THIN FILMS BY PLASMA PROCESSING
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  • SYNTHESIS OF CARBON NITRIDE THIN FILMS BY PLASMA PROCESSING
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저자명
Takai. Osamu,Taki. Yusuke,Kitagawa. Toshihisa
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
1996년|29권 5호|pp.363-370 (8 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Carbon nitride is one of the new carbon materials which show interesting properties. After the theoretical calculation by LIu and Cohen, many researchers are trying to prepare $eta$-$C_3N_4$ which may be harder than diamond. Many carbon nitride films synthesized till now by various methods are amorphous and the N/C ratios in the films are usually below 0.5. First we review shortly the synthesis of carbon nitride thin films by plasma, ion and laser processing. Second we report on the preparation of amorphous carbon nitride thin films by shielded arc ion plating and the structural and mechanical properties of the films.