기관회원 [로그인]
소속기관에서 받은 아이디, 비밀번호를 입력해 주세요.
개인회원 [로그인]

비회원 구매시 입력하신 핸드폰번호를 입력해 주세요.
본인 인증 후 구매내역을 확인하실 수 있습니다.

회원가입
서지반출
승화법에 의한 6H-SiC 단결정 성장 : (I) 성장결함생성기구
[STEP1]서지반출 형식 선택
파일형식
@
서지도구
SNS
기타
[STEP2]서지반출 정보 선택
  • 제목
  • URL
돌아가기
확인
취소
  • 승화법에 의한 6H-SiC 단결정 성장 : (I) 성장결함생성기구
저자명
김화목,강승민,주경,심광보,오근호
간행물명
한국결정성장학회지
권/호정보
1997년|7권 2호|pp.185-190 (6 pages)
발행정보
한국결정성장학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
서지반출

기타언어초록

승화법에 의한 단결정 성장장치를 자체 제작하여 직경 약 30 mm, 길이 약 10 mm의 6H-Sic 단결정을 성장하였다. 최적의 성장조건은 원료온도 $2150~2250^{circ}C$, 기판온도 $1950~2050^{circ}C$, 원료부와 기판과의 온도차 약 $200^{circ}C$, 성장압력 50~200 torr이었고, 성장속도는 300~700 $mu extrm{m}$/hr이었다. 성장된 결정의 표면을 광학현미경으로 관찰하여 성장결함 생성기구를 현상학적으로 고찰하였고, 특히 표면에서 관찰되는 micropipes의 생성원인을 규명하였다.

기타언어초록

The 6H-SiC single crystals were grown using a self-designed crystal grower by the sublimation method. The grown crystals were typically 30 mm in diameter and 10 mm in length. Optimum growth conditions were established as follows : the temperature of the raw material was $2150~2250^{circ}C$, the temperature of the substrate was $1950~2050^{circ}C$, the temperature difference between the raw material and substrate was about $200^{circ}C$, growth pressure was 50~200 torr and growth rate was 300~700 $mu extrm{m}$/hr. Optical microscopy was used for observing the surface of the 6H-SiC single crystal grown and the phenomenological approach was performed on the formation mechanism of the defects in the 6H-SiC crystal. Especially, the micropipes in the as-grown surface were examined to determine the formation mechanisms of the micropipes.