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공정 조성의 SnPb 솔더에서의 Electromigration 거동
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  • 공정 조성의 SnPb 솔더에서의 Electromigration 거동
저자명
최재영,이상수,주영창
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
2003년|16권 1호|pp.19-25 (7 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Electromigration characteristics of eutectic SnPb solder were studied using thin stripe-type test structures. Significant changes in the microstructure were observed after electromigration test, in which the temperature and the current density were varied from 80 to 100 $^{circ}C$ and from 4.6${ imes}$10$^4$A/$ extrm{cm}^2$ to 8.7${ imes}$10$^4$A/$ extrm{cm}^2$. While voids or local thinning were found near the cathode end, hillocks were mainly observed near the anode end. From resistance measurements, it was calculated that the activation energy of the eutectic SnPb solder for electromigration was 0.77 eV. The dominant migrating element along the electron flow at 100$^{circ}C$ was Pb.