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전기도금법에 의해 생성된 Ni-B 합금도금층의 물성에 미치는 B 함량의 영향
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  • 전기도금법에 의해 생성된 Ni-B 합금도금층의 물성에 미치는 B 함량의 영향
저자명
이규환,장도일,권식철
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
2004년|37권 4호|pp.208-214 (7 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The influence of the boron content on the various properties of Ni-B alloy films produced by electrodeposition was investigated. The considerable reduction in grain size was observed with increasing boron content. The internal stress was tensile and increased linearly with increasing boron content. Hardness increased up to $750H_{v}$ at 2 at% boron and then kept the value to 11 at% boron for as-plated Ni-B coatings. The hardness of Ni-B films increased up to $1,250H_{v}$ due to the intermetallic$ Ni_3$B precipitation by the heat treatment, and maximum hardness of each coating increases with boron content. Wear resistance decreased with increasing the boron content because of high friction coefficient and brittle fracture of film which has higher content of boron.