기관회원 [로그인]
소속기관에서 받은 아이디, 비밀번호를 입력해 주세요.
개인회원 [로그인]

비회원 구매시 입력하신 핸드폰번호를 입력해 주세요.
본인 인증 후 구매내역을 확인하실 수 있습니다.

회원가입
서지반출
MOCVD로 제작한 ZnO의 성장온도에 따른 특성 변화
[STEP1]서지반출 형식 선택
파일형식
@
서지도구
SNS
기타
[STEP2]서지반출 정보 선택
  • 제목
  • URL
돌아가기
확인
취소
  • MOCVD로 제작한 ZnO의 성장온도에 따른 특성 변화
  • Effect of Growth Temperature on the Properties of ZnO Films Grown by MOCVD
저자명
서현석,정의혁,조중열,최연익,서오권,Seo. Hyun-Seok,Jeong. Eui-Hyuk,Jo. Jung-Yol,Choi. Yearn-Ik,Seo. O-Gweon
간행물명
반도체및디스플레이장비학회지
권/호정보
2005년|4권 4호|pp.9-12 (4 pages)
발행정보
한국반도체및디스플레이장비학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
서지반출

기타언어초록

Characteristics of ZnO films grown on $Si-SiO_2$ substrates at temperatures of $200sim400^{circ}C$ by metalorganic chemical vapor deposition were investigated. The growth rates and mobilities of ZnO films were dependent on growth temperatures. The field-effect mobilities measured in thin-film transistor structure were $15cm^2/Vsec$.