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CS졸을 이용한 Poly(epoxy-imide)-나노 Silica 하이브리드 필름의 합성과 유전특성
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  • CS졸을 이용한 Poly(epoxy-imide)-나노 Silica 하이브리드 필름의 합성과 유전특성
저자명
한세원,한동희,강동필,강영택,Han. Se-Won,Han. Dong-Hee,Kang. Dong-Pil,Kang. Young-Taec
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
2007년|20권 1호|pp.35-40 (6 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The new PEI(poly(epoxy-imide))-nano Silica film has been synthesized via in situ CS sol process, and the chemical bonding and microstructure of nano silica dispersed in resin were examined by FT-IR, TAG and SEM. The dielectric properties of these hybrid films over a given temperature and frequency ranges have been studied in a point of view of stable chemical bonding of nano Silica filler. The results from IR spectra and SEM photograph indicated that PEI-Silica hybrid film prepared with nano CS sol process has been synthesized in uniform and chemical bonding. The decrease property of dielectric constant with CS content, tangent loss consistent of given frequency and temperature has been explained in terms of the chain movement of polymer through chemical bonging and size effect of nano silica. The new PEI-CS sol hybrid film with such stable chemical and dielectric properties was expected to be used as a high functional coating application in ET, IT and electric power products.