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RF Magnetron Sputtering으로 증착된 ZnO의 증착 특성과 이를 이용한 Thin Film Transistor특성
김영웅, 최덕균, Kim. Young-Woong, Choi. Duck-Kyun 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 6 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2007, Vol.14 No.3 15-20 (6 pages)
플라스틱 기판에 적용이 가능한 최대 공정온도 $270^{circ}C$ 이하에서 ZnO-TFT 소자를 제작하였다. ZnO-TFT 소자는 bottom gate 구조로 제작되었으며, ICP-CVD로 형성된 $SiO_2$ 산화물 게이트 공정을 제외하고는 모든 박막증착 공정은 RF-magnetron sputtering process를 이용하였다. ZnO 박막은 Ar과 $O_2$ gas 유량의 비율에 따라 여러 가지 조건에서 RF-magnetron sputtering 시스템을 이용하여 상온에서 증착하였다. Ar과 $O_2$ gas의 비율에 따라 제작된 TFT 소자는 모두 enhancement 모드의 소자특성을 나타내었고, 또한... -
Spectroscopic and Morphological Investigation of Copper Oxide Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering at Various Oxygen Ratios
Park. Ju-Yun, Lim. Kyoung-A, Ramsier. Rex D., Kang. Yong-Cheol 대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society 5 Pages
대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society 2011, Vol.32 No.9 3395-3399 (5 pages)
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Thermal Effect on Characteristics of IZTO Thin Films Deposited by Pulsed DC Magnetron Sputtering
Son. Dong-Jin, Ko. Yoon-Duk, Jung. Dong-Geun, Boo. Jin-Hyo, Choa. Sung-Hoon, Kim. Young-Sung 대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society 5 Pages
대한화학회 Bulletin of the Korean Chemical Society 2011, Vol.32 No.3 847-851 (5 pages)
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RF Sputtering의 증착 조건에 따른 HfO2 박막의 Nanocrystal에 의한 Nano-Mechanics 특성 연구
김주영, 김수인, 이규영, 권구은, 김민석, 엄승현, 정현진, 조용석, 박승호, 이창우, Kim. Joo-Young, Kim. Soo-In, Lee. Kyu-Young, Kwon. Ku-Eun, Kim. Min-Suk, Eum. Seoung-Hyun, Jun 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2012, Vol.21 No.5 273-278 (6 pages)
현재 Hf (Hafnium)을 기반으로한 게이트 유전체의 연구는 여러 분야에서 다양하게 진행되어져 왔다. 이는 기존의 $SiO_2$보다 유전상수 값이 크고, 또한 계속되는 scaling-down 공정에서도 양자역학적인 터널링을 차단하는 특성이 뛰어나기 때문이다. MOSFET 구조에서 유전체 박막의 두께 감소로 인한 전기적 특성 저하를 보완하기 위해서 high-K 재료가 대두되었고 현재 주를 이루고 있다. 그러나 현재까지 $HfO_2$에 대한 nano-mechanical 특성 연구는 부족한 상태이므로 본 연구에서는 게이트 절연층으로 최적화하기 위하여 $HfO_2$... -
R.F. sputtering 방법에 의해 c-BN 표면처리된 316L 오스테나이트계 스테인리스 강의 내마모특성 향상
이광민, 정세훈, 박성태, Lee. Kwang-Min, Jeong. Se-Hoon, Park. Sung-Tae 한국재료학회 한국재료학회지 5 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2010, Vol.20 No.4 194-198 (5 pages)
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RF Sputtering을 이용한 $Sr_2$$({Ta_{1-x}},{Nb_x})_2$)$O_7$ 박막의 성장 및 전기적 특성
인승진, 최훈상, 이관, 최인훈, In. Seung-Jin, Choe. Hun-Sang, Lee. Gwan, Choe. In-Hun 한국재료학회 한국재료학회지 5 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2001, Vol.11 No.5 367-371 (5 pages)
RF magnetron sputtering 법으로 T $a_2$ $O_{5}$ 세라믹 타겟과 S $r_2$N $b_2$ $O_{7}$ 세라믹 타겟을 동시 sputtering하여 저유전율 S $r_2$(T $a_{1-x}$ , N $b_{x}$)$_2$ $O_{7}$(STNO) 박막을 p-type Si (100) 기판 위에 증착하여 NDRO 강유전체 메모리 (Non-destructive read out ferro-electric random access memory)에 사용되는 Pt/STNO/Si (MFS) 구조의 응용 가능성을 확인하였다. Sr$_2$Nb$_2$ $O_{7} (SN O)$ 타겟과 T $a_2$ $O_{5}$ 타겟의 출력의 비를 100w/100w, 70w/100w, 그리고 50w/100w로 조절하면서 x 값을 달리하여... -
RF-Sputtering 법에 의한 SiC 나노와이어의 특성연구
정창구, 김태규, Jeong. Chang-Gu, Kim. Tae-Gyu 한국열처리공학회 열처리공학회지 6 Pages
한국열처리공학회 열처리공학회지 2010, Vol.23 No.6 344-349 (6 pages)
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E-Magnetron 스퍼터링에 의한 $Al_xTa_{1-x}$ 합금박막의 성장 및 구조적, 전기적 특성 분석
송대권, 이종원, 전종한 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 5 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2003, Vol.10 No.2 55-59 (5 pages)
본 연구에서는 RF-Magnetron 스퍼터링 장치를 이용하여 $Al_xTa_{1-x}$(x=0.0∼1.0) 합금박막을 성장하였고, 4탐침법, XRD, AFM, micro-Vickers 미소경도계를 사용하여 시료의 구조적, 기계적, 전기적 특성을 분석하였다. Al조성 x=0.245(Al 24.5 at.%)에서 전기저항이 가장 높게 나타났고, 결정질이 가장 우수하였다. 표면 hillock에 있어서는 낮은 Al 조성영 역에서는 x가 증가할수록 hillock이 감소하다가, x=0.245에서 hillock이 완전히 배제되었고, 이후 x 증가에 따라 hillock 밀도가 다시 급격히 증가하였다. 미소경도의 경우,...