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PACVD 방법으로 TiN 코팅시 공정변수가 작은 동공 내부의 코팅층 형성에 미치는 영향
김덕재, 조영래, 백종문, 곽종구, Kim. Deok-Jae, Jo. Yeong-Rae, Baek. Jong-Mun, Gwak. Jong-Gu 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2001, Vol.11 No.6 441-447 (7 pages)
형성시키는 연구를 하였다. 직류 펄스전원을 사용하여 지름이 4 mm인 작은 동공내부에 최고 20 mm 깊이까지 균일한 TiN 코팅층을 형성할 수 있었다. 코팅공정시 발광분광분석기를 사용해 Ti와 $N_{2}$ 및 $Ar^{+}$의 분광선을 측정함으로써 TiN 코팅막의 형성기구에 대하여 고찰하였다. 듀티비율이 50% 이상인 경우는 Ti, $N_{2}^{+}$ 및 $Ar^{+ }$ 의 분광선이 나타났으나, 듀터비율이 28.6%이하인 경우 분광선이 전혀 나타나지 않았으며 TiN 코팅층의 형성도 불안정하였다. 펄스전원으로 Bipolar로 사용한 경우 Unipolar를 사용한... -
Cu-MOCVD를 위한 TiN기판의 플라즈마 전처리
이종무, 임종민, 박웅, Lee. Jong-Mu, Im. Jong-Min, Park. Ung 한국재료학회 한국재료학회지 6 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2001, Vol.11 No.5 361-366 (6 pages)
세정이 Cu막의 핵생성에 미치는 효과에 관하여 조사하였다. Gu의 전처리 세정방법으로는 direct플라즈마 방식이 원거리 플라즈마 방식보다 훨씬 더 효과적이다. 또한 수소플라즈마 전처리 시 rf-power와 플라즈마 조사시간이 증가함에 따라 세정효과는 더 증대된다. 플라즈마 전처리가 Cu의 핵생성을 고양시키는 원리는 다음과 같다. 플라즈마 내의 수소이온이 TiN과 반응하여 $NH_3$가 됨으로서 질소 성분이 제거되어 TiN이 Ti로 환원된다. Cu는 TiN기판보다는 Ti기판상에서 핵생성이 더 잘 되므로 플라즈마 전처리는 Cu의 핵생성을... -
공기 중에 노출된 MOCVD TiN 기판이 MOCVD Cu 증착에 미치는 효과
최정환, 변인재, 양희정, 이원희, 이재갑, Choe. Jeong-Hwan, Byeon. In-Jae, Yang. Hui-Jeong, Lee. Won-Hui, Lee. Jae-Gap 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2000, Vol.10 No.7 482-488 (7 pages)
vapor deposition)로 Cu 박막을 형성시키고, MOCVD에 의한 TiN 기판 변화가 Cu 증착에 미치는 영향을 조사하였다. 공기 중에 노출시킨 기판은 MOCVD 에 의한 Cu 핵생성 및 초기성장에 영향을 미쳐 입자크기가 작고, 입자간의 연결성이 떨어졌으며, in-situ MOCVD Cu의 경우는 입자크기가 크고, 입자간의 연결성이 우수하여 1900$AA$ 이상의 두께에서는 $2.0{mu}{Omega}-cm$ 정도의 낮은 비저항을 유지하였다. 또한 접착력에서는 in-situ MOCVD TiN 의 경우가 보다 우수하였다. 이와 같은 결과를 토대로 MOCVD Cu 성장단계를 제시하였다. -
Ti 또는 Ti/TiN underlayer가 Al 박막의 배향성 및 면저항에 미치는 영향
이원준, 나사균, Lee. Won-Jun, Rha. Sa-Kyun 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2000, Vol.10 No.1 90-96 (7 pages)
$400^{circ}C,;N_2$ 분위기에서 열처리하면서 면저항의 변화를 조사하였다. Ti만을 Al의 underlayer로 사용한 경우, Ti두께가 10nm 이상이면 우수한 Al <111> 배향성을 나타냈으며 Al-Ti 반응 때문에 열처리 후 Al 배선의 면저항이 크게 상승하였다. Ti와 Al사이에 TiN을 적용함에 의해 Al <111> 배향성은 나빠지나 Al-Ti 반응에 의한 면저항의 증가는 억제할 수 있었다. Ti/TiN underlayer의 경우, 우수한 Al <111> 배향성을 확보하기 위한 Ti의 최소두께는 20nm이었고, Al-Ti 반응을 억제하기 위한 TiN의 최소두께는... -
마모 상대재 변화에 따른 TiN 극박막의 마찰 및 마모거동
송명훈, 이재갑, 김용석, Song. Myeong-Hun, Lee. Jae-Gap, Kim. Yong-Seok 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 2000, Vol.10 No.1 62-68 (7 pages)
강구를 마모 상대재로 한 경우, TiN 박막은 200g 이하의 마모 하중과 0.035m/sec의 낮은 미끄럼 속도 조건에서 500nm 내외의 극박으로도 마찰계수가 0.1 내외로 유지되는 우수한 내마모성을 보였다. 이같이 우수한 내마모성은 AISI 52100 강으로부터 천이된 Fe가 산화되어 TiN 박막 표면에 Fe 산화층을 형성한 때문으로 설명되었다. 그러나, 마모 상대재를 알루미나 볼로 한 경우에는 TiN 박막 위에 산화층이 형성되지 않고, 마모가 거의 되지 않는 알루미나 볼과 박막층 사이에 국부적 응력집중 등이 발생하여 시험된 전 조건 하에서... -
(hfac)Cu(vtmos)의 액체분사법에 의한 TiN 기판상 구리박막의 유기금속 화학증착 특성
전치훈, 김윤태, 김대룡, Jun. Chi-Hoon, Kim. Youn-Tae, Kim. Dai-Ryong 한국재료학회 한국재료학회지 9 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1999, Vol.9 No.12 1196-1204 (9 pages)
0.6Torr일 때 활성화에너지는 155~225$^{circ}C$의 표면반응 지배영역에서 12.7~14.1kcal/mol의 값을 나타내었으며, 225$^{circ}C$ 이상의 기판온도에서는 $H_2$ 첨가에 따른 증착율 개선이 간응한 것으로 판단되었다. 증착층은 기판온도 증가에 따라 3차원 island 양식으로 성장하였으며, 증착초기 구리 핵생성밀도가 큰 RTP-TiN상 증착층이 PVD-TiN상보다 현저한 (111) 우선방위와 낮은 전기비저항값을 나타내었다. 구리박막의 전기비저항은 결정립간 연결성이 양호한 165$^{circ}C$에서 가장 낮았으며, 증착온도에 따른 박막 미세구조... -
새로운 증착원으로 형성된 MOCVD TiN에 관한 연구
최정환, 이재갑, 김지용, 이은구, 홍해남, 신현국, Choe. Jeong-Hwan, Lee. Jae-Gap, Kim. Ji-Yong, Lee. Eun-Gu, Hong. Hae-Nam, Sin. Hyeon-Guk 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1999, Vol.9 No.3 244-250 (7 pages)
감소를 나타내었다. 그러나 암모니아의 유량을 증가시킬수록 $0.5mu extrm{m}$ 접촉창에서 나타난 tiN 박막의 도포성은 감소하였고 이는 TEMAT와 암모니아의 기상 반응에의한 높은 첩착계수를 가진 중간 생성물의 형성에 의한 것으로 생각된다. 반응 부산물에 대한 분석은 QMS에 의해 이루어 졌으며 transamination 반응에 의한 TiN 증착 기구를 제시하였다. 추가적으로 XPS 분석으로 TEMAT와 암모니아의 반응에 의해 만들어지는 탄소는 금소기 탄소였으며 $eta$-수소 반응이 transamination 반응과 경쟁적으로 일어남을 나타내었다. -
Effect of Niobium and Tin on Mechanical Properties of Zirconium Alloys
김경호, 최병권, 백종혁, 김선재, 정용환, Kim. Gyeong-Ho, Choe. Byeong-Gwon, Baek. Jong-Hyeok, Kim. Seon-Jae, Jeong. Yong-Hwan 한국재료학회 한국재료학회지 7 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1999, Vol.9 No.2 188-194 (7 pages)
2원계 (Zr-xNb, Zr-xSnl 와 3원계 (Zr-O.8Sn-xNb, Zr-O.4Nb-xSnl Zr합금의 기계적 특성에 미치는 Nb와 Sn의 영향올 조사하기 위하여 인장시험 빛 마세조직 분석을 실시하였다. Nb와 Sn량이 많이 첨가될수록 2원계와 3원계 합금의 강도는 정진적으로 증가하는 경향을 보이는데, Nb와 Sn이 고용도 이상으로 첨가될 때 강도중가는 더욱 두드러진 것으로 냐타났다. 강도 증가현상을 고용강화, 석출강화, 결정립 미세화에 의한 강화, 집합조직에 의한 강화효과 관정에서 분석한 결과, 고용강화 효과가 가장 두드러지며 Nb와 Sn이 고용도... -
Effect of Working Pressure on Anode Characteristics of Tin Oxide Thin Films
손현철, 문희수, 성상현, 박종완, Son. Hyeon-Cheol, Mun. Hui-Su, Seong. Sang-Hyeon, Park. Jong-Wan 한국재료학회 한국재료학회지 4 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1999, Vol.9 No.1 14-17 (4 pages)
본 실험에서는 리튬 이차 박막전지의 음극물질로 주석 산화물 박막을 RF magnetron sputter을 이용하여 증착하였다. RF power를 2.5w/$ extrm{cm}^{2}$로 고정시키고, 공정압력을 5mtorr에서 30mtorr까지 변화시키면서 막의 결정성 및 응력 변화, 굴절률 등을 측정하여 주석 산화물 박막의 음극 특성을 조사하였다. 분석한 결과, 압력이 증가함에 따라 증착 속도는 $125{AA}$/min에서 $58{AA}$/min까지 감소하였으며, 결정 구조는 (110)면에서 (101)면과 (211)면으로 천이됨을 보였다. 또한 막응력은 공정압력 20mtorr를 기준으로...