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우리나라 고용량 MLCC 기술 개발의 역사와 전망
홍정오, 김상혁, 허강헌, Hong. Jeong-Oh, Kim. Sang-Hyuk, Hur. Kang-Heon 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 9 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2009, Vol.46 No.2 161-169 (9 pages)
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ECR플라즈마 전처리가 RuO2 MOCVD시 핵생성에 끼치는 효과
엄태종, 박연규, 이종무, Eom. Taejong, Park. Yunkyu, Lee. Chongmu 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 5 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2005, Vol.42 No.2 94-98 (5 pages)
DRAM과 FRAM소자에서 고유전 capacitors의 저전극물질로서 폭넓게 연구되고 있다. 본 연구에서는 XRD, SEM, AFM 분석 등을 통하여 금속유기 화학 증착법(MOCVD)으로 $RuO_2$ 증착시 핵생성에 영향을 미치는 수소, 산소, 아르곤 ECR플라즈마 전처리 효과를 조사하였으며, 아르곤 ECR플라즈마 전처리의 경우 가장 높은 핵생성 밀도를 나타내었다. ECR 플라즈마 전처리를 통한 $RuO_2$의 핵생성 향상 메카니즘은 아르곤이나 수소 ECR 플라즈마는 TiN막 표면의 질소나 산소원자를 제거하고 따라서 TiN막 표면은 Ti-rich TiN으로 바뀌게 되는... -
표면에칭효과에 의한 산화알루미늄 유전체의 정전용량 특성
오한준, 박치선, Oh. Han-Jun, Park. Chi-Sun 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 7 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2004, Vol.11 No.4 61-67 (7 pages)
알루미늄 유전체의 표면적 증가에 의한 정전용량 값을 증가시키기 위하여, 1 M의 염산 에칭용액에 첨가제를 사용했을 때 나타나는 알루미늄 표면의 에칭특성의 변화를 조사하였다. 에칭액으로서 염산을 사용한 경우 알루미늄 표면에서 생성되는 에치피트의 형상과 단위 면적당 생성밀도가 균일하지 못하였다. 염산용액에 에틸렌글리콜이 첨가된 혼합용액에서 에칭을 실시했을 경우, 알루미늄 기지 표면에 미세하고 균일한 에치피트가 형성되어 표면적 증가의 효과가 크게 나타났다. 에틸렌글리콜이 첨가된 에칭액에서 제조된 유전체는... -
내장형 축전기용 유전재료
이호영 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 7 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2002, Vol.9 No.2 61-67 (7 pages)
최근 전자제품의 경박단소화 추세는 전자기기의 크기와 가격의 감소를 이끌어냈으며, 이러한 추세는 당분간 지속될 전망이다. 이에 따라 내장형 수동소자기술에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 내장형 축전기 제조기술의 핵심은 높은 유전상수를 갖는 재료를 저온에서 인쇄회로판 위에 형성하는 것이다. 본 고에서는 내장형 축전기용 유전재료로 사용되는 재료들에 관하여 간략하게 소개하고자 한다. -
Styrene-Acrylonitrile 기반 다공성 탄소의 전기화학적 특성에 활성화 온도가 미치는 영향
이지한, 허건영, 박수진, Lee. Ji-Han, Heo. Gun-Young, Park. Soo-Jin 한국고분자학회 폴리머 6 Pages
한국고분자학회 폴리머 2012, Vol.36 No.6 739-744 (6 pages)
본 연구에서는 합성한 styrene-acrylonitrile(SAN) 전구체를 기반으로 한 탄소를 제조하였다. 그 제조된 탄소는 화학적 환원법으로 활성화하였고, 그 활성화된 SAN 기반 탄소를 A-SAN이라 명명하였다. 전기이중층 커패시터의 전극용 A-SAN 기반 탄소의 표면 특성과 전기화학적 특성에 있어서 활성화 온도에 의한 효과를 확인하기 위해 다양한 온도에서 활성화를 진행하였다. A-SAN의 특성분석을 위해 X-선 회절분석법(XRD), 주사전자현미경(SEM) 그리고 비표면적 장치에 의해 조사되었다. 또한 전기화학적 거동은 순환전류전압과 정전류... -
다중벽 탄소나노튜브의 표면처리에 따른 전기이중층 커패시터의 특성
김지일, 김익준, 박수진, Kim. Ji-Il, Kim. Ick-Jun, Park. Soo-Jin 대한화학회 대한화학회지 6 Pages
대한화학회 대한화학회지 2010, Vol.54 No.1 93-98 (6 pages)
본 연구에서는 Urea와 산 처리로 질소 및 산소 관능기가 도입된 다중벽 탄소나노튜브를 각각 제조하였으며, 표면처리에 따른 전기이중층 커패시터 (EDLCs) 특성을 관찰하였다. XPS, zeta-potential, 및 BET 분석방법을 이용하여 구조특성을 확인하였으며, 전기화학적 특성은 1 M 황산용액의 전해질에서 각각 50 $mVs^{-1}$과 100 $mVs^{-1}$의 주사속도로 순환전류 전압곡선 특성 실험을 통해 고찰하였다. 실험 결과로부터 MWNTs의 질소 원소구성비가 늘어날수록 축전용량이 증가하는 것을 확인하였으며, Urea 처리된 MWNTs의 축전용량이... -
PCB용 임베디드 캐패시터에 관한 연구
홍순관, Hong. Soon-Kwan 대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. TE, 전문기술교육 6 Pages
대한전자공학회 電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. TE, 전문기술교육 2005, Vol.42 No.4 1-6 (6 pages)
최근 저항이나 캐패시터와 같은 수동소자를 PCB의 내층에 제조하는 임베디드 패시브 기술이 고성능의 IT 제품을 제조하는데 사용되고 있다. 그런데 임베디드 캐패시터는 정전용량 밀도가 낮아 회로소자로서의 전반적인 응용에 한계가 있다. 본 논문에서는 이러한 한계를 극복하기 위하여 wrinkle형의 전극과 유전체 층을 가진 새로운 임베디드 캐패시터를 제안하였다. FEM 기법을 사용하여 wrinkle형 임베디드 캐패시터의 정전용량 밀도를 평가하였다. Wrinkle형 임베디드 캐패시터는 기존의 평면형 임베디드 캐패시터에 비하여... -
제7차 하계학술발표회 및 산학협동세미나 초록
상지원친좌 대한전기학회 전기학회지= The Processing of the Institute of Electrical Engineers 14 Pages
대한전기학회 전기학회지= The Processing of the Institute of Electrical Engineers 1976, Vol.25 No.5 37-50 (14 pages)
중성점 분리방식에서의 Thyristor Inverter의 동작특성 4.전력계통에 있어서의 조상설비의 최적운용에 관한 연구 5.유도전동기의 정회전 운전 II.계측제어 및 시스템 분과 1.교정충동성 안구운동에 대한 만족치원리의 적용 2.An active biquadratic building block without external capacitors 3.프오트란 프로그래밍 어의 변경에 관하여 4.배합율의 변화에 의한 Mortar의 초음파 흡수 연상 5.최근의 선위결정법 III.재료 및 고전압 분과 1.희토류금속코발트 주철자석의 자기특성 2.부성기체의 전류성장과정의 해석 3.발포 FEP수지의...