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RF 마그네트론 스퍼터링 방법을 사용해 증착된 Al이 도핑 된 ZnO 박막의 H2/(Ar + H2) 가스 비율에 따른 특성
김좌연, 한정수, Kim. Jwa-Yeon, Han. Jung-Su 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 5 Pages
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 2012, Vol.22 No.3 122-126 (5 pages)
wt%가 도핑 된 ZnO(AZO) 타겟으로RF 스퍼터링 장비를 사용하여 $H_2/(Ar+H_2)$ 가스 비율에 따른 AZO 박막을 증착 후, 이들 박막의 특성을 조사하였다. AZO 박막은 $200^{circ}C$, $2{ imes}10^{-2}$ 공정조건에서 $H_2/(Ar+H_2)$ 가스 비율을 변화시키면서 증착하였다. AZO박막증착 중 수소가스의 첨가는 박막의 특성에 영향을 미쳤다. $H_2/(Ar+H_2)$ 가스 비율이 2.5 %일 때 비 저항(${sim}9.21{ imes}10^{-4};{Omega}cm$)과 전자 이동도(${sim}17.8;cm^2/Vs$)는 각각 최소값과 최대값을 나타내었다. $H_2/(Ar+H_2)$ 가스 비율이 2.5 %... -
졸-겔법으로 제조한 Al-doped ZnO 박막의 특성에 관한 연구
김용남, 이승수, 송준광, 노태민, 김정우, 이희수, Kim. Yong-Nam, Lee. Seoung-Soo, Song. Jun-Kwang, Noh. Tai-Min, Kim. Jung-Woo, Lee. Hee-Soo 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 6 Pages
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 2008, Vol.18 No.1 50-55 (6 pages)
이용하여 유리기판 위에 Al-doped ZnO(AZO) 박막을 제조하였고, AZO 박막의 특성에 대하여 Al 전구체 종류 및 post-annealing 온도가 미치는 영향에 대하여 고찰하였다. AZO 박막 제조용 졸은 zinc acetate, EtOH, MEA 등을 사용하여 제조하였고, Al doping 을 위한 전구체로는 aluminum nitrate 와 aluminum chloride 를 사용하였다. Sol 내의 Zn 농도는 0.5 mol/l 로 하였고, Al doping 양은 Zn 대비 1 at%로 고정하였다. 유리기판 위에 졸을 spin-coating 한 후 $550^{circ}C$에서 2 시간 동안 열처리한 후, $N_2$와 $H_2$의 비가 9 :... -
직류 반응성 sputtering법으로 제막된 ZnO:Al 박막의 물성에 미치는 증착조건 및 타겟의 영향
유병석, 오근호 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 7 Pages
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 1998, Vol.8 No.4 592-598 (7 pages)
ZnO($Al_2O_3;2%$ 2% doped) 산화물 타겟과 금속 Zn(Al 2% doped) 타겟을 사용하여 반응성 직류 마그네트론 스퍼터링법으로 산소 가스 및 인가 전력을 조절하면서 AZO(Aluminum doped Zine Oxide) 막을 증착하였다. 비저항과 평균 투과율을 고려할 때 최적의 투명전도성을 보이는 조건은 산화물 타겟의 경우 산소가스의 비가 $0.5{ imes}10^{-2}~1.0{ imes}10^{-2}$범위이며, 금속 타겟의 경우 인가전력 0.6kW에서는 0.215~0.227, 1.0kW에서는 0.305~0.315이었다. 각 최적조건에서 제막된 AZO 막의 비저항은 $1.2~1.4{ imes}10^{-3}... -
마이크로웨이브 magnetron sputtering법으로 제막된 ZnO:Al 박막의 전기광학적 특성
유병석, 오근호 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 5 Pages
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 1998, Vol.8 No.4 587-591 (5 pages)
마이크로 웨이브를 보조 여기원으로 사용한 직류 magnetron 스퍼터링법으로 Aluminum이 2wt% 포함되어 있는 Zn:Al 합금타겟을 사용하여 AZO(Aluminum doped zinc oxide) 투명 전도막을 제막하였고 그 영향을 조사하였다. 타겟인가 전압이 420V에서 증착된 막의 투과율, 비저항 그리고 증착속도는 각각 50~70%, $5.5{ imes}10^{-3}{Omega}$cm 그리고 6,000$AA extrm{mm}^2$/J 이었다. 이 막을 40$0^{circ}C$에서 30분간의 열처리하면 광투과율은 80% 이상으로 열처리전에 비해 향상되었으며 전도도는 2배 이상 향상되어 비저항값이 $2.0{... -
반응성 sputtering법으로 제막된 ZnO : Al 박막의 전기.광학적 특성에 미치는 열처리의 영향
유세웅, 유병석, 이정훈 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 8 Pages
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 1996, Vol.6 No.4 493-500 (8 pages)
Zn 금속타겟을 사용하여 반응성 직류 magnetron sputtering법으로 AZO(Aluminum doped zinc oxide) 투명전도막을 제조한 후 열처리함에 따라 변하는 박막의 전기적 광학적 특성을 조사하였다. 전이영역에서 증착된 막들은 비저항이 50 % 정도 감소하여 $1{ imes}10^{-3}~3.5{ imes}10^{-4};{Omega}cm$로 전기적 특성이 향상되었으며, 높은 산소분압에서 산화물로 증착된 막의 비저항이 증착직후에는 $10^{3};{Omega}cm$였으나 열처리 후에는 $2{ imes}10^{-3};{Omega}cm$로 감소하였다. 또 전이영역에서 증착된 막은 증착직후 59.4 %이던... -
반응성 sputtering법으로 제막된 ZnO : Al 박막의 전기.광학적 특성
유병석, 유세웅, 이정훈 한국결정성장학회 한국결정성장학회지 13 Pages
한국결정성장학회 한국결정성장학회지 1996, Vol.6 No.4 480-492 (13 pages)
Al이 2 wt% 포함되어 있는 Zn 금속 target을 사용하여 반응성 직류 magnetron sputtering법으로 AZO(Aluminum doped Zinc Oxide) 투명전도막을 제막하였다. 반응성 가스인 산소의 분압과 유량을 조절하여 투과율과 전도도가 모두 우수한 전이영역을 발견하였고 전이영역을 안정적으로 유지하기 위한 증착조건을 찾아냈다. ZnO:Al막의 XRD분석결과 산화막이나 전이영역에서 증착된 막들은 ZnO결정의 (002)면의 peak가 유일하게 관찰되었다. -
실험계획법 중 Box-Behnken(박스-벤켄)법을 이용한 반응성 염료의 광촉매 산화조건 특성 해석 및 최적화
조일형, 이내현, 장순웅, 안상우, 윤영한, 조경덕, Cho. Il-Hyoung, Lee. Nae-Hyun, Chang. Soon-Woong, An. Sang-Woo, Yonn. Young-Han, Zoh. Kyung-Duk 대한환경공학회 대한환경공학회지 9 Pages
대한환경공학회 대한환경공학회지 2006, Vol.28 No.9 917-925 (9 pages)
] system에서 azo dye 중 반응성 염료의 광촉매 산화분해에 대한 연구를 수행하였다. 광촉매 산화공정은 다양한 인자에 의해 영향을 받으며 이런 인자들의 산화반응에서 효과 및 특성을 파악하고 예측식 모형을 추정하기란 매우 힘든 작업이다. 따라서 본 연구는 실험계획법 중 박스-벤켄법(Box-Behnken method)을 이용하여 2인자 3수준의 실험디자인으로 최적의 산화조건을 찾기 위한 실험을 수행한 결과는 다음과 같다. 본 실험에서 색도 제거율($Y_1$)의 반응모형에 가장 크게 영향을 끼치는 항은 주 효과(선형효과)와 교차항으로... -
$MIEX^{(R)}$+응집공정을 이용한 한외여과 공정의 최적화 : 다양한 전처리 공정의 적용에 따른 막 오염 현상 규명
손희종, 황영도, 노재순, 정철우, 강임석, Son. Hee-Jong, Hwang. Young-Do, Roh. Jae-Soon, Jung. Chul-Woo, Kang. Lim-Seok 대한환경공학회 대한환경공학회지 9 Pages
대한환경공학회 대한환경공학회지 2005, Vol.27 No.7 753-761 (9 pages)
전처리 공정에 따른 투과 flux 변화를 살펴보면 $MIEX^{(R)}$+UF 공정의 경우 응집+UF 공정에 비하여 높은 유기물 제거율을 나타내었으나 투과 flux 감소는 크게 나타났다. 따라서, 막 오염을 자세하게 규명하기 위하여 sequential filtration 실험결과 막 오염물질은 고분자 유기물질로 나타났으며, DOC 0.5 mg/L 이하의 유기물질이 막 오염 유발물질로 작용하고 있었다. 10 kDa 이하의 저분자 유기물질들은 $MIEX^{(R)}$ 처리에 의해 제거가 용이하여 막 표면에서 유기물 부하를 감소시켜 이로 인해 응집+UF공정에 비하여 투과 flux... -
마이크로 에멀젼 계면을 통과하는 광유발전자의 양자수득률
박용태, Park. Yong-Tae 대한화학회 대한화학회지 5 Pages
대한화학회 대한화학회지 1983, Vol.27 No.3 213-217 (5 pages)
광증감제로 류테니늄비피리딘 착물$[Ru(bipy)_3]^{2+}$을 사용, 전자공여체 EDTA와 함께 물층에, 전자수용체 $HV^{2+}$(Hexadecyl violagan)이 계면에 각각 존재할 때 광에 의한 전자전이에 따르는 $HV^+$ 형성수득률은 0.12이였다. 또 계면에 $BNA^+$(Benzyl nicotinamide)를 넣고 유층에 아조(azo) 화합물을 넣었을 때는 azobenzene이 환원되었는데, 이때 양자수득률이 줄었다. (${Phi}$ = 0.0016) 양이온 마이크로 에멀젼과 음이온 마이크로에멀젼의 광유발 전자전이 능력을 비교하였다. 광증감제로 유기염료인 로즈벤갈(Rose...