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251.

Structural and Magnetic Properties of Fe-Diluted Si Alloy Films by Pulsed-Laser Deposition

서주영, 이경수, 박상우, 김은규, Suh. Joo-Young, Lee. Kyung-Su, Pak. Sang-Woo, Kim. Eun-Kyu 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2012, Vol.21 No.5 258-263 (6 pages)

서주영, 이경수, 박상우, 김은규, Suh. Joo-Young, Lee. Kyung-Su, Pak. Sang-Woo, Kim. Eun-Kyu 저

이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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펄스레이저 증착법으로 P형 실리콘(100) 기판위에 증착한 Fe 희석된 Si 합금의 구조와 전기적 및 자기적 물성을 연구하였다. 합금시료에 대한 X-선 회절패턴에서 육방정계에 해당하는 FeSi, $Fe_3Si$, 및 $Fe_5Si_3$와 관련된 여러 개의 회절신호가 관측되었으며, 에너지분산분광 측정에 의한 시료내 Fe 원자의 함량은 1.25~6.49 atm, %로 나타났다. 또한, 온도변화에 따른 전기비저항 값의 측정으로부터 5.21 meV와 7.79 meV 두 개의 활성화에너지를 얻을 수 있었다. 절대온도 10 K에서 측정한 최대 자화는 약 100 emu/cc로 나타났으며,...
252.

Sb 계면활성제에 의한 p-GaN 박막의 홀농도 향상

김자연, 박성주, 문영부, 권민기, Kim. J.Y., Park. S.J., Moon. Y.B., Kwon. M.K. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 5 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2011, Vol.20 No.4 271-275 (5 pages)

김자연, 박성주, 문영부, 권민기, Kim. J.Y., Park. S.J., Moon. Y.B., Kwon. M.K. 저

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본 논문은 고휘도 발광소자의 특성을 높이기 위한 p-GaN 박의 홀농도 향상을 연구하였다. 우리는 metal organic chemical vapor deposition 법을 이용하여 Antimony (Sb)가 p-GaN의 홀농도 향상에 도움을 주는 것을 확인하였다. Atomic force microscope 측정을 통해 Sb가 계면활성제처럼 역할을 함으로써 p-GaN의 2차원 성장이 촉진됨을 알 수 있었다. 또한 X-ray diffraction 결과 [002] 면과 [102] 면의 반폭치가 Sb 도핑과 함께 줄어드는 것을 통해 Edge과 Screw 전위의 감소와 photoluminescence 결과에서 450~500 nm 청색 파장...
253.

버퍼막 두께 및 버퍼막 열처리 온도에 따른 ZnO/b-ZnO/p-Si(111)의 전기적 특성 변화 및 이종접합 다이오드 특성 평가

허주회, 류혁현, Heo. Joo-Hoe, Ryu. Hyuk-Hyun 한국진공학회 韓國眞空學會誌 7 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2011, Vol.20 No.1 50-56 (7 pages)

허주회, 류혁현, Heo. Joo-Hoe, Ryu. Hyuk-Hyun 저

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ZnO 박막의 구조적, 전기적 특성 또한 연구되었다. X-ray diffraction (XRD) 방법을 이용하여 ZnO 박막의 구조적 특성을 측정하였고, semiconductor parameter analyzer를 이용하여 ZnO/b-ZnO/p-Si(111) 이종접합 다이오드의 I-V 특성을 평가하였다. XRD 분석 결과 버퍼막 열처리 온도 $700^{circ}C$, 버퍼막 두께 70 nm에서 ZnO 박막은 우세한 (002) 방향의 c-축 배향성을 갖는 육방정계(hexagonal wurtize) 결정 구조를 나타내었다. 전기적 특성인 운반자 농도, 비저항 값의 경우에는 버퍼막 열처리 온도 $700^{circ}C$, 버퍼막 두께 50...
254.

반도체/디스플레이 공정급 건식진공펌프 개발 개요

이상윤, 노명근, 김병옥, 이안성, Lee. S.Y., Noh. M., Kim. B.O., Lee. A.S. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 10 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2010, Vol.19 No.4 265-274 (10 pages)

이상윤, 노명근, 김병옥, 이안성, Lee. S.Y., Noh. M., Kim. B.O., Lee. A.S. 저

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반도체소자 및 디스플레이 제조공정의 핵심 환경인 진공을 형성 유지하기 위한 건식진공펌프는 높은 성능과 신뢰성을 필요로 한다. 건식진공펌프의 개발을 위해서는 다양한 고려와 세밀한 기술적 검토가 필요하다. 본고에서는 반도체 및 디스플레이 제조 공정용 건식진공펌프 개발 과정을 단계별로 소개하고 향후 기술발전 방향에 대해 소개하고자 한다.
255.

Ge 기판 위에 HfO2 게이트 산화물의 원자층 증착 중 In Situ 질소 혼입에 의한 전기적 특성 변화

김우희, 김범수, 김형준, Kim. Woo-Hee, Kim. Bum-Soo, Kim. Hyung-Jun 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2010, Vol.19 No.1 14-21 (8 pages)

김우희, 김범수, 김형준, Kim. Woo-Hee, Kim. Bum-Soo, Kim. Hyung-Jun 저

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metal oxide semiconductor field effect transistors (MOSFETs) 소자를 위한 channel 물질로서 각광받고 있다. 그러나 화학적으로 안정한 게이트 산화막의 부재는 MOS 소자에 Ge channel의 사용에 주요한 장애가 되어왔다. 특히, Ge 기판 위에 고품질의 계면 특성을 갖는 게이트 절연막의 제조는 필수 요구사항이다. 본 연구에서, $HfO_xN_y$ 박막은 Ge 기판 위에 플라즈마 원자층 증착법(plasma-enhanced atomic layer deposition, PEALD)을 이용하여 증착되었다. 플라즈마 원자층 증착공정 동안에 질소는 질소, 산소 혼합 플라즈마를...
256.

고체 전해질 메모리 소자의 연구 동향

박영삼, 이승윤, 윤성민, 정순원, 유병곤, Park. Young-Sam, Lee. Seung-Yun, Yoon. Sung-Min, Jung. Soon-Won, Yu. Byoung-Gon 한국진공학회 韓國眞空學會誌 9 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2008, Vol.17 No.4 253-261 (9 pages)

박영삼, 이승윤, 윤성민, 정순원, 유병곤, Park. Young-Sam, Lee. Seung-Yun, Yoon. Sung-Min, Jung. Soon-Won, Yu. Byoung-Gon 저

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Programmable metalization cell (PMC) memory 소자로도 명명되는 고체 전해질 메모리 소자는 비휘발성, 고속 및 높은 ON/OFF 저항비 등을 갖고 있기 때문에, 차세대 비휘발성 메모리로서 각광받고 있는 소자 중의 하나이다. 본 논문에서는 고체 전해질 메모리 소자의 동작 원리를 먼저 소개하고자 한다. 또한, 메모리향 소자 개발을 진행 중인 미국 코지키 교수 그룹, 비메모리향 소자 개발을 진행 중인 일본 NEC 그룹 등의 해외 연구진과, Te 계열의 칼코게나이드 합금을 채택하여 소자를 제작한 한국전자통신연구원 및 충남대학교 등의...
257.

반도체 장비용 Al2O3 코팅 진공부품의 내부식성 평가 연구

유승민, 윤주영, 강상우, 신재수, 성대진, 신용현, You. S.M., Yun. J.Y., Kang. S.W., Shin. J.S., Seong. D.J., Shin. Y.H. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2008, Vol.17 No.3 175-182 (8 pages)

유승민, 윤주영, 강상우, 신재수, 성대진, 신용현, You. S.M., Yun. J.Y., Kang. S.W., Shin. J.S., Seong. D.J., Shin. Y.H. 저

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반도체 장비용 진공코팅부품의 공정영향에 의한 내부식 성능 평가방법을 연구개발 하였다. 평가기준을 마련하기 위해 반도체 공정에서 교체된 코팅부품의 특성을 분석 평가하였다. 코팅부품의 성능을 정량적으로 측정하기 위하여 부품의 코팅막으로 많이 사용되고 있는 $Al_2O_3$ 막의 건식부식실험을 실시하였고 표면모폴로지, 누설전류 및 내전압측정 등을 수행하였다. 실험결과 건식부식처리 후 샘플의 누설전류량이 증가하였고, 절연내력이 크게 줄어 전기적 특성이 하향된 결과를 보였으며, 표면 모폴로지의 경우 부식시간 증가에...
258.

CVD 공정의 전구체 잔존량 실시간 진단방법 연구

윤주영, 신용현, 정광화, Yun. Ju-Young, Shin. Yong-Hyoen, Chung. Kwang-Hwa 한국진공학회 韓國眞空學會誌 5 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2005, Vol.14 No.3 110-114 (5 pages)

윤주영, 신용현, 정광화, Yun. Ju-Young, Shin. Yong-Hyoen, Chung. Kwang-Hwa 저

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본 연구는 화학증착(Chemical Vapor Deposition, CVD) 시스템에서 전구체 소모량을 모니터링 하기 위한 방법이다. 전구체는 가격이 매우 비싸기 때문에 이를 모니터링 하기 위한 효과적인 방법이 요구된다. 하나의 예로서 용기내 수위진단을 할 수 있는 초음파 센서를 들 수 있는데 이는 비접촉식이고 가격이 저렴한 유리한 점이있다 본 연구에서는, CVD 시스템에서의 전구체 소모량 모니터링을 위한 초음파 진단기술 개발에 관해 연구한다. 또한 반도체 생산라인에 적용이 가능한 실제 진단장치를 개발, 적용한다.
259.

Plasma 처리한 유기 절연층을 갖는 유기 박막 트랜지스터의 전기적 특성 연구

김연주, 박재훈, 강성인, 최종선 한국진공학회 韓國眞空學會誌 4 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2004, Vol.13 No.3 99-102 (4 pages)

김연주, 박재훈, 강성인, 최종선 저

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유기 절연층을 사용한 유기 박막 트랜지스터의 특성 향상을 위해 절연층 표면에 Ar플라즈마 처리를 하였다. 플라즈마 처리는 절연체 표면의 화학적, 물리적 특성 변화를 통해 그 후에 이어지는 활성층 성막시 분자들의 결정성을 향상시키기 위한 방법이다. 활성층으로 사용된 물질은 pentacene이며, 절연층으로 사용된 물질은 PVP(poly-vinyl-phenol)이다. Pentacene는 약 $10^{-6}$ Torr에서 0.5 $AA$/sec의 속도로, PVP는 spin coating법에 의해 각각 성막되었다. 형성된 절연층을 일정 시간동안 H플라즈마 처리 한 후 각 소자의 전기적...
260.

증기증착 공정 감시를 위한 반도체 레이저 흡수 분광학

정의창, 송규석, 차형기 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2004, Vol.13 No.2 59-64 (6 pages)

정의창, 송규석, 차형기 저

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반도체 레이저를 광원으로 사용하는 원자흡수분광 방법으로 금속증기의 증착 공정을 감시하는 연구를 수행하였다. 전자빔 가열 방식을 이용하여 gadolinium (Gd) 금속을 대량으로 증발시켰다. 파장 영역이 770-794 nm (중심파장 780 nm)인 반도체 레이저빔과 388-396 nm 영역의 제 2 고조파 빔을 진공용기에 입사시켜 증발되는 금속증기의 원자흡수 스펙트럼을 실시간으로 기록하였다. 흡수 스펙트럼을 분석하여 증기의 원자밀도를 구했다. 전자빔 출력을 변화시키면서 측정한 원자밀도를 수정 결정 모니터 장치를 사용하여 측정한...

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