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국소마취제가 Synaptosomal Plasma Membrane Vesicles의 유동성에 미치는 영향
윤일(Il Yun), 한석규(Suk Kyu Han), 백승완(Seung Wan Baik), 김남홍(Nam Hong Kim), 강정숙(Jung Sook Kang), 정준기(Joong Ki Chung), 이은주(Eun Joo Lee) 대한약리학회 대한약리학잡지 10 Pages
대한약리학회 대한약리학잡지 1988, 제 24권 제 1호 5 43-52 (10 pages)
소의 신선한 대뇌피질로부터 synaptosomal plasma membrane vesicles(SPMV)를 분리한 후 그 소수성 중심부의 microviscosity에 미치는 국소마취제의 영향을 pyrene 형광 probe법으로 측정한 결과 lidocaine HCI과 procaine HCI이 microviscosity를 낮춘다는 것을 알았고 그 정도는 procaine HCI에 비하여 tidocaine.HCI이 더욱 컸다. 또 국소마취 제 가 dimyristoylphosphatidylcholine (DMPC) multilamellar liposomes의 상전 이온도를 낮추며 cooperative unit크기를 감소시킨다는 것도 시차 열량분석법으로 알게 되었다. 상전이온도와... -
Tensile Properties and Morphology of Carbon Fibers Stabilized by Plasma Treatment
이승욱, 이화영, 장성연, 조승무, 이훈수, 이성호 한국탄소학회 Carbon Letters 5 Pages
한국탄소학회 Carbon Letters 2011, Vol.12 No.1 3 16-20 (5 pages)
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Characteristic of Plasma Blacks Used as an Electrode of Direct Formic Acid Fuel Cell
Young Sook Park, Jong-Ho Choi, Jonghee Han, Tae0Hoon Lim, Youngs 한국탄소학회 Carbon Letters 6 Pages
한국탄소학회 Carbon Letters 2005, Vol.6 No.1 6 41-46 (6 pages)
환경문제가 대두되면서 지구온실효과의 대부분을 차지하는 CO₂가스를 발생시키지 않으면서도 21세기 신에너지로 각광받고 있는 수소를 대량으로 제조하는 방법으로 천연가스의 열분해 공정이 최근 연구되고 있다. 이주에서 플라즈마에 의한 천연가스 분해공정은 매우 단순하며, 부생산물로 카본블랙이 제조되어지므로, 이를 활용하여 새로운 부가가치를지닌 소재를 창출할 수 있다. 따라서 본 연구에서는 천연가스의 플라즈마 분해 공정에 의해 부산물로 생성되어 지는 카본블랙에 대한 응용방안을 모색하고자 한다. -
Capacitively Coupled Plasma Source를 이용한 Etcher의 상부 전극 온도 변화에 따른 Etch 특성 변화 개선
신한수, 노용한, 이내응, Shin. Han-Soo, Roh. Yong-Han, Lee. Nae-Eung 한국진공학회 韓國眞空學會誌 5 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2011, Vol.20 No.5 322-326 (5 pages)
전극에 RF power 가 직접 인가되는 capacitively coupled plasma source를 이용한 oxide layer etching 공정은 현재 반도체 제조 공정에서 매우 유용하게 사용되고 있는 방식이다. 그러나 디바이스의 사이즈가 점점 작아지면서 공정을 진행하기 위한 RF power도 커지고, plasma ignition 되는 electrode 사이의 간격도 점점 좁아지는 기술적 변화가 이루어지고 있다. 이러한 H/W의 변화에 따라 예상치 못한 문제들로 공정을 적용하는데 많은 문제점이 발생하고 있는데, 공정 진행 시에 plasma의 영향으로 인한 electrode의 온도 변화도 그... -
RF 플라즈마에 의해 생성된 산소 플라즈마의 발광 스펙트럼
김도엽, 김민수, 김태훈, 김군식, 최현영, 조민영, 전수민, 박성동, 김진하, 김은도, 황도원, 임재영, Kim. Do-Yeob, Kim. Min-Su, Kim. Tae-Hoon, Kim. Ghun-Sik, Choi. Hyun-Young, Cho. Min-Y 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 2009, Vol.18 No.2 102-107 (6 pages)
연구에서는 ZnO 박막을 성장하기 위한 plasma-assisted molecular beam epitaxy (PAMBE)에 장착된 플라즈마건에 13.56 MHz의 rf 전력을 인가하였을 때 발생되는 산소 플라즈마의 발광 스펙트럼을 광발광 분광기(optical emission spectroscopy: OES)를 이용하여 조사하였다. 실험은 산소 가스 유량을 1 sccm에서 20 sccm, rf 전력을 25W에서 250 W 범위에서 플라즈마건의 오리피스의 직경을 각각 3 mm 와 5 mm로 달리하여 행해졌다. 산소 플라즈마를 발생시켰을 때 오리피스의 직경에 상관없이 전형적인 산소 플라즈마의 발광 스펙트럼이... -
Plasma로 활성화된 질소 원자를 사용한 사파이어 기판 표면의 저온 질화처리의 XPS 연구
이지면, 백종식, 김경국, 김동준, 김효근, 박성주 한국진공학회 韓國眞空學會誌 8 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 1998, Vol.7 No.4 320-327 (8 pages)
원격 플라즈마 화학기상증착법(Remote Plasma Enhanced-Ultrahigh Vacuum Chemical Vapor Deposition)에 의해 활성화된 질소 원자를 사용하여 사파이어 기판의 표면 을 저온에서 질화처리한 후 표면의 화학적 조성을 조사하였다. 질화처리에 의해 주로 표면 에 형성된 물질은 AIN임을 X-선 광전자 분광방법(X-ray photoelectron spectroscopy:XPS) 을 사용하여 확인하였다. 또한 플라즈마의 RF 출력, 반응 온도 및 시간에 따라서 기판의 Al 과 반응한 질소의 상대적인 양과, 표면 형태를 XPS와 AFM(atomic force microscopy)을 사... -
RF Magnetron Sputtering 법으로 제조된 AIN 박막에 관한 연구
남창길, 최승우, 천희곤, 조동율 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 1997, Vol.6 No.1 44-49 (6 pages)
반응성 RF 스퍼터링 장치에 반응성 질소와 작업가스 아르곤을 동시에 주입하면서 Al을 스퍼터링하여 AIN박막을 형성하였다. polycarbonate기판이나 이 디스크 표면 위의 micron크기의 pregroove형태의 손상이 일어나지 않을 정도의 저온의 저온을 유지키 위하여 플라즈마(plasma) 자체 온도($100^{circ}C$이하)로 가열하면서 silicon과 glass기판 위에 AIN박막을 증착시켰다. 여러 증착변수 변화에 따른 박막의 결정성, 단면형상 및 굴절율 변화 등을 분석 하였다. -
평판형 유도결합플라즈마를 이용한 RF 스퍼터 식각반응로 제작 및 특성에 관한 연구
이원석, 이진호, 염근영 한국진공학회 韓國眞空學會誌 7 Pages
한국진공학회 韓國眞空學會誌 1995, Vol.4 No.2 210-216 (7 pages)
수 있는 가장 적합한 기술이라 사료되는 유도 결합형 플라즈마(Inductively Coupled Plasma : ICP)를 이용한 RF 스퍼터 식각 반응로를 제작하고 이에 대한 특성을 조사하였다. 유도용 주파수로서 13.56 MHz를 사용하였으며 유도결합을 일으키기 위해 3.5회의 나선형 평판형 코일을 사용함으로써 비교적 대면적에 균일한 고밀도 플라즈마를 얻을 수 있었다. 또한 기판에 독립적인 13.56MHz RF power를 가해 DC 바이어스를 인가함으로써 기판으로 입사하는 하전입자들의 에너지를 조절하여 기판에의 손상을 최소화하며 SiO2의 스퍼터 식각... -
RF 유도형 플라즈마 프로세스에 대한 분광학적 연구
장문국, 한상보, 박상현, Jang. Mun-Gug, Han. Sang-Bo, Park. Sang-Hyun 한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 10 Pages
한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 2011, Vol.25 No.11 103-112 (10 pages)
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비대칭 전극계에서의 1차원적 RF 플라즈마 모델링에 관한 연구
소순열, 임장섭, So. Soon-Youl, Lim. Jang-Seob 한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 7 Pages
한국조명전기설비학회 照明·電氣設備學會論文誌 2004, Vol.18 No.5 35-41 (7 pages)
본 연구에서 사용된 방전 기체는 오염물의 제거 및 박막 표면 정제 등의 연구 분야에 응용되고 있는 질소 가스를 사용하였으며, 1차원 동심구 모델의 개발로 인하여, 접지 면적을 넓게 함에 따라 경방향으로의 플라즈마 분포가 중심축의 분포와 동일하다는 1차원적 가정이 적절하지 못하다는 Barnes 모델을 보완할 수 있었다. 일정한 인가 전압하에서는 입체각($omega$)의 증가에 따라 질소 플라즈마를 구성하는 각 입자의 수밀도 분포, 전계 및 포텐셜이 감소함을 볼 수 있었다. 그러나 면적비가 증가하면서 구동 전극에서의 각 입자들의...


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