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311.

N-doped ZnO 박막의 미세 구조 특성

이은주, 박재돈, 윤기완, Lee. Eun-Ju, Park. Jae-Don, Yoon. Gi-Wan 한국해양정보통신학회 한국해양정보통신학회논문지 6 Pages

한국해양정보통신학회 한국해양정보통신학회논문지 2009, Vol.13 No.11 2385-2390 (6 pages)

이은주, 박재돈, 윤기완, Lee. Eun-Ju, Park. Jae-Don, Yoon. Gi-Wan 저

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magnetron sputtering 시스템을 사용하여 p-Si(100) 웨이퍼 위에 증착되었다. $N_2O$ 가스는 N doping source로 사용되었으며, 전체 가스 유량에 대한 $N_2O$ 가스의 비율 $N_2O/(N_2O+Ar)$과 증착 전력을 증착의 주요 공정 변수로 선택하여 다양한 가스 비율과 증착 전력에 대한 박막의 미세 구조 특성을 비교 분석하였다. 특히, Auger electron spectroscopy (AES)를 이용하여 ZnO 박막 내에 들어가 존재하는 불순물 N의 수직분포를 분석하였고, 여러 가지 증착 조건에서 제작된 ZnO 박막의 표면형상 및 미세구조 특성을 Scanning...
312.

시효 열화시킨 터빈 로터강의 피로강도에 관한 연구

서창민, 허정훈, 이해무, 서덕영 한국해양공학회 韓國海洋工學會誌 11 Pages

한국해양공학회 韓國海洋工學會誌 1996, Vol.10 No.2 77-87 (11 pages)

서창민, 허정훈, 이해무, 서덕영 저

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313.

초소수성 전기 분무 마이크로 추진 장치 및 마이크로 추력 측정

이영종, 유용훈, 김상훈, 박배호, 변도영, Lee. Young-Jong, Yoo. Yong-Hoon, Kim. Sang-Hoon, Park. Bae-Ho, Buyn. Do-Young 한국항공우주학회 韓國航空宇宙學會誌 6 Pages

한국항공우주학회 韓國航空宇宙學會誌 2009, Vol.37 No.2 175-180 (6 pages)

이영종, 유용훈, 김상훈, 박배호, 변도영, Lee. Young-Jong, Yoo. Yong-Hoon, Kim. Sang-Hoon, Park. Bae-Ho, Buyn. Do-Young 저

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초소수성 표면을 만들기 위하여, PTFE 표면은 Ar과 $O_2$를 이용한 이온빔 공정 장치를 사용하였다. 최적의 표면 공정 조건은 Ar과 $O_2$ 유량 및 에너지 단위를 변화 시켜 얻을 수 있었다. 공정된 노즐의 표면 특성을 분석하기 위하여 접촉각 측정을 수행하였고, 표면의 형태적 분석을 위해 scanning electron microscope(SEM) 그리고 atomic force microscope(AFM) 측정을 하였다. 초소수성으로 공정된 노즐을 사용함으로써 보다 안정적이고 반복적인 전기 분무가 가능함을 확인 하였으며, 공정 된 노즐의 성능을 평가하기 위하여...
314.

고배율 도공층 구조 및 S/B latex 분포 분석을 위한 도공층 횡단면 제작

김채훈, 윤혜정, 이학래, Kim. Chae-Hoon, Youn. Hye-Jung, Lee. Hak-Lae 한국펄프종이공학회 펄프 종이기술 9 Pages

한국펄프종이공학회 펄프 종이기술 2012, Vol.44 No.4 16-24 (9 pages)

김채훈, 윤혜정, 이학래, Kim. Chae-Hoon, Youn. Hye-Jung, Lee. Hak-Lae 저

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315.

시판 잇솔의 특성 및 잇솔모의 주사전자현미경적 연구

양정승, Yang. Jung-Seung 한국치위생학회 한국치위생교육학회지 15 Pages

한국치위생학회 한국치위생교육학회지 2002, Vol.2 No.2 159-173 (15 pages)

양정승, Yang. Jung-Seung 저

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316.

두 용매에서의 폴리스타이렌의 용해도 차이를 이용한 초소수성 표면 제조

정진석, 박광배, 최호석, Jung. Jin-Suk, Park. Kwang-Bae, Choi. Ho-Suk 한국청정기술학회 청정기술 5 Pages

한국청정기술학회 청정기술 2008, Vol.14 No.1 35-39 (5 pages)

정진석, 박광배, 최호석, Jung. Jin-Suk, Park. Kwang-Bae, Choi. Ho-Suk 저

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tetrahydrofuran (THF)에 녹인 후 다시 에탄올(EtOH)을 첨가하여 두 용매의 용해도 차이로 표면에 초소수성 성질을 갖게 제조하였다. 한편, EtOH 첨가, 코팅방법, 용액혼합 시간과 속도 및 다른 알콜들이 형성된 표면의 소수성에 미치는 영향들을 각각 조사하였다. 접촉 각 측정기를 사용하여 측정한 결과 $150^{circ}$ 이상의 물 접촉각을 확인하였고, 광학현미경(optical microscopy)과 주사전자현미경(scanning electron microscope, SEM)으로 관찰한 표면 구조는 $5;{mu}m$ 이하의 입자들로 구성된 미세다공성 구조임이 확인되었다.
317.

LCD 공정용 C3F6 가스를 이용한 Si3N4 박막 식각공정 및 배출가스에 관한 연구

전성찬, 공대영, 표대승, 최호윤, 조찬섭, 김봉환, 이종현, Jeon. S.C., Kong. D.Y., Pyo. D.S., Choi. H.Y., Cho. C.S., Kim. B.H., Lee. J.H. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2012, Vol.21 No.4 199-204 (6 pages)

전성찬, 공대영, 표대승, 최호윤, 조찬섭, 김봉환, 이종현, Jeon. S.C., Kong. D.Y., Pyo. D.S., Choi. H.Y., Cho. C.S., Kim. B.H., Lee. J.H. 저

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수행하여 식각 특성에 관하여 연구하였으며, 흡착제 Zeolite 5A를 이용하여 식각공정 중 배출되는 가스 성분을 감소시켰다. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 장비를 이용하여 500 nm 두께의$Si_3N_4$ 박막을 증착하였으며, 노광 공정을 통해 패터닝을 한 후 Reactive Ion Etching 공정을 수행하였다. 그리고 Scanning Electron Microscope 장비를 이용하여 $Si_3N_4$ 박막의 식각된 단면과 식각율을 확인하였다. 또한 공정 후 흡착제 Zeolite 5A를 통과하기 전과 후에 배출되는 가스를 포집하여 Gas Chromatograph-Mass...
318.

약알칼리탈지 용액에서의 구리 Seed 층의 전처리 효과

이연승, 김성수, 나사균, Lee. Youn-Seoung, Kim. Sung-Soo, Rha. Sa-Kyun 한국진공학회 韓國眞空學會誌 6 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2012, Vol.21 No.1 6-11 (6 pages)

이연승, 김성수, 나사균, Lee. Youn-Seoung, Kim. Sung-Soo, Rha. Sa-Kyun 저

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및 변화상태를 조사 분석하였다. Field emission scanning electron microscope을 이용하여 TS-40A 용액에 전처리 후 구리 seed 표면 형상이 grain이 명확히 보일 정도로 변화하는 것을 관찰하였고, X-ray photoelectron spectroscopy를 이용하여 표면 처리된 Cu seed 표면의 화학구조 및 불순물 상태를 조사하였다. TS-40 용액에서의 dipping 시간 변화에 따른 효과는 거의 없었다. TS-40A 용액에 전처리한 후, 구리 seed 층 표면위의 많은 탄소성분이 제거되었고, 약간의 산소가 제거되었으며, O=C 및 $Cu(OH)_2$에 해당되는 피크들이...
319.

γ-FIB 시스템을 이용한 산소 유량 변화에 따른 산화인듐주석 박막의 특성 연구

김동해, 손찬희, 윤명수, 이경애, 조태훈, 서일원, 엄환섭, 김인태, 최은하, 조광섭, 권기청, Kim. D.H., Son. C.H., Yun. M.S., Lee. K.A., Jo. T.H., Seo. I.W., Uhm. H.S., Kim. I.T., Choi. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 9 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2012, Vol.21 No.6 333-341 (9 pages)

김동해, 손찬희, 윤명수, 이경애, 조태훈, 서일원, 엄환섭, 김인태, 최은하, 조광섭, 권기청, Kim. D.H., Son. C.H., Yun. M.S., Lee. K.A., Jo. T.H., Seo. I.W., Uhm. H.S., Kim. I.T., Choi. 저

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파장 범위는 300~1,100 nm이다. 4-point probe를 이용하여 면저항을 측정하였으며, Hall Measurement System을 이용하여 비저항, 캐리어 농도 및 전자이동도를 측정하였다. Scanning electron microscope 장비를 이용하여 ITO 박막 표면을 분석하였고, 박막의 거칠기는 Atomic force microscope을 이용하여 측정하였다. ${gamma}$-Focused ion beam system을 이용하여 ITO 박막의 이차전자방출계수를 측정하였으며, 이차전자방출계수 값으로 Auger neutralization mechanism 분석법을 이용해 ITO 박막의 일함수를 결정하였다. 3 sccm의 산...
320.

Au-Si 나노점을 촉매로 성장한 Si 나노선의 구조 및 광학적 특성 연구

이연환, 곽동욱, 양우철, Lee. Y.H., Kwak. D.W., Yang. W.C. 한국진공학회 韓國眞空學會誌 7 Pages

한국진공학회 韓國眞空學會誌 2008, Vol.17 No.1 51-57 (7 pages)

이연환, 곽동욱, 양우철, Lee. Y.H., Kwak. D.W., Yang. W.C. 저

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성장 후 형태를 전계방출 주사전자현미경(Field Emission Scanning Electron Microscope)으로 관찰한 결과, 대부분의 나노선이 균일한 크기로 기판 표면에 수직하게 <111> 방향으로 정렬된 것을 확인하였다. 형성된 나노선의 크기는 평균 직경이 ${sim}60nm$이고 평균 길이가 ${sim}5um$임을 확인하였다. 또한 고 분해능 투과전자현미경(High Resolution-Transmission Electron Microscope) 관찰을 통해 Si 나노선은 약 3nm의 비정질 산화층으로 둘러 싸여 있는 Si 단결정임이 분석되었다. 그리고 마이크로 라만 분광(Micro-Raman...

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