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Microwave performance of High Tc Superconducting Double Ring Resonator
송승용, 이조용, 최선웅, 송기영, Song. Seung-Yong, Lee. Jo-Yong, Choe. Seon-Ung, Song. Gi-Yeong 한국재료학회 한국재료학회지 3 Pages
한국재료학회 한국재료학회지 1997, Vol.7 No.5 431-433 (3 pages)
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Post Resonator 방법에 의한 마이크로파 유전율 측정에서의 오차 분석
조문성, 임동건, 박재환, 박재관, Cho. Mun-Seong, Lim. Donggun, Park. Jae-Hwan, Park. Jae-Gwan 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 6 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2012, Vol.19 No.3 43-48 (6 pages)
마이크로파 유전체의 비유전율 측정에 널리 사용되고 있는 post resonator 기법에서 시편의 형상과 기구물의 편차 등에 의해서 발생하는 비유전율 계산의 오차요인에 대해 시뮬레이션과 시편 실측을 통해 분석하였다. HFSS 시뮬레이션을 통하여 post resonator 측정 기구물에 놓여진 유전체(유전율 38) 디스크의 $S_{21}$ 파라메터 스펙트럼을 계산하고 $TE_{011}$ 모드 공진주파수로부터 비유전율을 계산하였다. 시편의 형상비(직경D/높이H)가 0.8~1.6 사이로 변화함에 따라 계산되는 비유전율 값의 오차는 약 0.3% 이내로 미미하였다.... -
후막 광식각 기술을 이용한 미세라인 및 Series Gap Resonator의 구현
박성대, 이영신, 조현민, 이우성, 박종철 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 7 Pages
한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징 학회지 2001, Vol.8 No.3 69-75 (7 pages)
후막광식각 기술은 스크린 인쇄 등의 일반적 후막공정에 노광 및 현상등의 리소그라피 공정 을 접목시킨 새로운 기술이다. 그린시트를 적층한 후 감광성 Ag 페이스트를 도포하고, 패턴을 노광, 현상, 동시소성하여 스크린 인쇄법으로는 어려운 25 $mu extrm{m}$ 선폭과 25 $mu extrm{m}$ 선간공백을 구현하였다. 알루미나 기판을 사용하였을 경우에도 유사한 방법으로 20 $mu extrm{m}$에 가까운 선폭이 구현 가능하였으며, 노광량과 현상시간이 미세라인 형성에 있어서 가장 중요한 공정변수임을 확인하였다. 또한, 광식각 기술을... -
Delay Measurement and Split-Step Time-Domain Analysis of Ring Resonator All-Pass Filters
Kim. Hyosuk, Ko. Yoonyoung, Moon. Hyunseung, Kim. Jaeseong, Chung. Youngchul 한국광학회 Journal of the Optical Society of Korea 6 Pages
한국광학회 Journal of the Optical Society of Korea 2014, Vol.18 No.6 766-771 (6 pages)
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Numerical Investigation of Tunable Band-passand-stop Plasmonic Filters with Hollow-core Circular Ring Resonator
Setayesh. Amir, Mirnaziry. Sayyed Reza, Abrishamian. Mohammad Sadegh 한국광학회 Journal of the Optical Society of Korea 8 Pages
한국광학회 Journal of the Optical Society of Korea 2011, Vol.15 No.1 82-89 (8 pages)
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고주파 대역에서 Dielectric Rod Resonator 방법에 의한 저유전 손실 물질의 유전 특성 측정
김근영, 심화섭, 안철, 장익수, Kim. Geun-Young, Shim. Hwa-Sup, An. Chul, Chang. Ik-Soo 대한전자공학회 전자공학회논문지 6 Pages
대한전자공학회 전자공학회논문지 1990, Vol.27 No.10 10-15 (6 pages)
Dielectric rod resonator 방법을 이용하여 고주파 대역에서 낮은 유전 손실을 갖는 유전체의 유전 특성을 측정하는 이론과 실험결과를 보였다. 유전체 시편과 금속 도체판 사이에 존재하는 공기층 효과를 최소화하기 위해 $TE_{011}$ mode 공진 주파수를 이용하였다. 컴퓨터를 사용하여 공진 주파수와 시편 크기, 2-dB 대여폭으로부터 유전 특징을 계산하였다. 측정의 오차 범위는 유전 상수인 경우 ${pm}3{\%}$ 유전 손실인 경우 ${pm}12{\%}$ 이내였다.