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간행물
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- CARBON LETTERS(2)
- THE KOREAN JOURNAL OF ORTHODONTICS(2)
- THE PLANT PATHOLOGY JOURNAL (2)
- 전기전자재료학회논문지(2)
- 전기학회논문지. THE TRANSACTIONS OF THE KOREAN INSTITUTE OF ELECTRICAL ENGINEERS. C/ C, 전기물성-응용부문(2)
- JOURNAL OF SENSOR SCIENCE AND TECHNOLOGY(1)
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- 한국세라믹학회지(1)
- 한국표면공학회지(1)
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Fabrication of Sputtered Gated Silicon Field Emitter Arrays with Low Gate Leakage Currents by Using Si Dry Etch
Cho. Eou Sik, Kwon. Sang Jik 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2013, Vol.14 No.1 28-31 (4 pages)
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Dry Etching Properties of HfAlO3 Thin Film with Addition O2 gas Using a High Density Plasma
Woo. Jong-Chang, Lee. Yong-Bong, Kim. Jeong-Ho 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 6 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2014, Vol.15 No.3 164-169 (6 pages)
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The Dry Etching Properties on TiN Thin Film Using an N2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Woo. Jong-Chang, Joo. Young-Hee, Park. Jung-Soo, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2011, Vol.12 No.4 144-147 (4 pages)
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Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl2-Based Plasma
Woo. Jong-Chang, Ha. Tae-Kyung, Li. Chen, Kim. Seung-Han, Park. Jung-Soo, Heo. Kyung-Mu, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2011, Vol.12 No.2 60-63 (4 pages)
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Dry Etching of Al2O3 Thin Films in O2/BCl3/Ar Inductively Coupled Plasma
Yang. Xeng, Woo. Jong-Chang, Um. Doo-Seung, Kim. Chang-Il 한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 4 Pages
한국전기전자재료학회 Transactions on electrical and electronic materials 2010, Vol.11 No.5 202-205 (4 pages)
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HDP를 이용한 실리콘 단결정 Deep Dry Etching에 관한 특성
박우정, 김장현, 김용탁, 백형기, 서수정, 윤대호 한국세라믹학회 한국세라믹학회지 6 Pages
한국세라믹학회 한국세라믹학회지 2002, Vol.39 No.6 570-575 (6 pages)
Mechanical Systems) device의 개발에 주력하고 있으며, 이를 위해서는 고종횡비와 높은 식각 속도를 가진 HDP(High Density Plasma) etching 기술 개발이 필수적이라 할 수 있다. 이를 위하여 우리는 Inductively Coupled Plasma(ICP) 장비를 이용하여 각 공정 변수에 의한 실리콘 deep trench식각 반응을 연구하였다. 실험 공정 변수인 platen power, etch/passivation cycle time에서 etching 단계 시간에 따른 변화와 SF$_{6}$:C$_4$F$_{8}$ 가스유량을 변화시켜 연구하였으며 또한 이들의 profile, scallops, 식각 속도, 균일도,...


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