MMS와 자외선에 의한 DNA의 절제회복과 단사절단에 미치는 poly(ADP-ribose) polymerase의 저해제인 3-aminobenzamide의 영향을 CHO 세포를 재로로 조사하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. MMS에 의한 비주기성 DNA 합성률과 DNA 단사 절단률은 이 저해제에 의해 모두 증가하였다. 이는 poly (ADP-ribose) polymeraserk MMS에 의해 유발된 염기 절제회복의 incision step를 억제하는 결과라 생각된다. 2. 자외선에 의한 비주기성 DNA 합성률과 DNA단사 절단률은 이 저해제에 의해 모두 감소하였다. 이는 poly(ADP-ribose) polymerase가 자외선에 의해 유발된 nucleotide 절제회복의 incision step을 돕는 작용을 하는 결과로 생각된다. 3. MMS와 자외선을 복합처리한 실험군에서는, DNA 단사 절단률은 이 저해제에 의해 영향을 받지 않았으며, 비주기성 DNA 합성률은 자외선 단독 처리군의 수준으로 증가되었다. 이는, 이 저해제가 MMS와 자외선으로 유발된 절제회복의 incision step에는 독립적으로 작용하며, 그 이후의 단계에서, MMS에 의해 부분적으로 불활성화 되었던 pyrimidine dimers의 절제를 완전하게 해주는 것으로 해석된다.
Amounts of DNA single strand breaks and unscheduled DNA synthesis in CHO cells exposed to MMS were increased in the presence of 3-aminobenzamide, a potent inhibitor of poly (ADP-ribose) polymerase. However, those in cells irradiated with UV-light were decreased. These results suggest that poly (ADP-ribose) polymerase acts negatively on the MMS-induced base excision repair but positively on the UV-induced nucleotide excision repair. In the combined treatment with MMS and UV-light in the presence of this inhibitor, amounts of strand breaks were just the same as those in the absence of the inhibitor. But those of unscheduled DNA synthesis were increased up to the amount induced by UV-light alone. These results may suggest that poly (ADP-ribose) polymerase affects the incision step of excision repair induced by MMS and UV-light independently, and that it may potentiate the complete cleaving of UV-induced pyrimidine dimers possibly by the repair enzymes which might have been partially inactivated by MMS.
