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다결정 실리콘 이중전극 구조를 이용한 16$ imes$16 이차원 전하결합 영상감지소자의 설계, 제작 및 동작
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  • 다결정 실리콘 이중전극 구조를 이용한 16$ imes$16 이차원 전하결합 영상감지소자의 설계, 제작 및 동작
저자명
정지채,오춘식,김충기,Jeong. Ji-Chae,O. Chun-Sik,Kim. Chung-Gi
간행물명
電子工學會誌
권/호정보
1985년|22권 3호|pp.68-76 (9 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

전하 결함 소자를 이용한 16×16 이차원 영상 감지 소자가 제작되었다. 제작된 소자는 2상(two-Phase)의 전극 구조로 제작 되었고 프레임 이동(frame transfer) 방식으로 동작한다. 표면 전위차를 얻기위해 이온 주입을 했고 NMOS공정을 따라 제작되었다. 영상을 얻기위한 시스템은 광학 렌즈 클럭 발생 및 구동 회로, 계단형 신호 발생기로 이루어지는데, EPROM을 사용하여 클럭 발생회로를 간단하게 하였다. 영상 시스템을 사용하여 오실로스코프 화면에 알파베트를 표시할 수 있었다. 소자의 특성으로 전하 이동 손실률과 암전류를 측정하였다.

기타언어초록

A charge-coupled device (CCD) area image sensor has been demonstrated with an experi-mental 16$ imes$16 prototype. The prototype is a vertical frame transfer charge.coupled imager using two-phase gate electrode structures. In this device, ion-implanted barriers are used for two -phase CCD, and NMOS process has been adopted. The total imaging setup consisting of optical lens, clock generators, clock drivels, staircase signal generators, and oscilloscope is easily achieved with the aid of PROM . English alphabets are displayed on the oscilloscope screen using the total imaging set-up. We measure charge transfer inefficiency and dark current for the fabricated devices.