기관회원 [로그인]
소속기관에서 받은 아이디, 비밀번호를 입력해 주세요.
개인회원 [로그인]

비회원 구매시 입력하신 핸드폰번호를 입력해 주세요.
본인 인증 후 구매내역을 확인하실 수 있습니다.

회원가입
서지반출
반도체분야에 있어서 고융점 Metal-Silicide기술과 그 활용현황 (II)
[STEP1]서지반출 형식 선택
파일형식
@
서지도구
SNS
기타
[STEP2]서지반출 정보 선택
  • 제목
  • URL
돌아가기
확인
취소
  • 반도체분야에 있어서 고융점 Metal-Silicide기술과 그 활용현황 (II)
저자명
성만영,박영진
간행물명
전기학회지= The Processing of the Institute of Electrical Engineers
권/호정보
1986년|35권 10호|pp.635-642 (8 pages)
발행정보
대한전기학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
서지반출

기타언어초록

본고의 내용은 다음과 같다. 6. 실리사이드 막의 열산화 6.1 실리사이드/실리콘계의 산화 6.2 실리사이드/산화막계의 산화 6.3 산화의 측면에서 실리사이드의 비교 6.4 인이 도핑된 실리사이드의 저온증속산화 7. 반도체 디바이스에의 응용