- VLSI 제조공정에서의 고속열처리 장치의 응용현황
- ㆍ 저자명
- 김충기,김경태
- ㆍ 간행물명
- 전기학회지= The Processing of the Institute of Electrical Engineers
- ㆍ 권/호정보
- 1987년|36권 2호|pp.81-90 (10 pages)
- ㆍ 발행정보
- 대한전기학회
- ㆍ 파일정보
- 정기간행물| PDF텍스트
- ㆍ 주제분야
- 기타
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본고의 내용은 다음과 같다. 1. 고속열처리 장치의 종류 2. 고속열처리의 응용 2.1 이온주입된 실리콘의 열처리 2.2 이온주입된 다결정 실리콘 2.3 고속열산화와 고속 열질화에 대한 연구 2.4 silicide형성에 관한 연구 2.5 알루미늄과 실리콘의 contact alloying과 Al-Si metallization 2.6 Glass Reflow