Beam monitor는 beam이 발생하는 전장, 자장 또는 방사광등 beam에 의해 유기되는 ion을 관측하는 것과 같이 간접적으로 beam의 정보를 얻는 방법과 beam의 진로에 직접 sensor를 삽입해 전하입자로써의 beam과 장치를 구성하는 매질의 상호작용에 의해 정보를 얻는 방법으로 대변할 수 있다. monitor는 전극동의 검출기에 유기되는 신호level이 비교적 낮으므로 설계 제작시에는 대개의 경우 이론적인 계산을 그대로 설계에 적용할 수 있다. 따라서, 설계 제작시에는 동작원리등을 충분히 검토한 후에 설계해야 한다. monitor의 정도는 검출기의 기계설계와 회로설계의 적부에 의해 결정되기 때문이다. 한편 전자 beam에 의해 유기되는 전기적성질을 이용한 beam monitor에 비해 SR을 이용한 monitor의 경우에는 주위의 전기적인 noise의 영향을 전혀 받지 않는다는 점에 커다란 이점을 갖고 있다. PLS에서 목표로 하고 있는 제3세대 machine에서도 SR monitor는 중시되고 있다.