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Interfacial Structures and Activation Processes of Doped Si Semiconductors
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  • Interfacial Structures and Activation Processes of Doped Si Semiconductors
  • Interfacial Structures and Activation Processes of Doped Si Semiconductors
저자명
Chun. Jang-Ho
간행물명
전자공학회논문지
권/호정보
1990년|27권 7호|pp.1042-1048 (7 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The approximations of charge relationships at normally doped semiconductor interfaces were qualitatively derived basis on electrical neutrality conditions. Effects of ion adsorptions, activation processes, interfacial structures, rectifying phenomena, and effects of surface potential barriers at the p- and n-Si/CsNO3 aqueous electrolytes, and the p-Si/(1HF:3HNO3:6H2O) electrolyte solutions were investigated using a cyclic voltammetric method. The space charge acts the most important role for the pn junction structures, the rectifying phenomena, and the activation processes. The Current-Voltage (I-V) characteristics curves significantly depend on developing of the Helmholtz double layers and charging of the show surface states during the activation processes. A linear Current-Voltage characteristics region was observed at the p-Si/(1HF:3HNO3: 6H2O) electrolyte solution interface.