- X-선 회절을 이용한 비정질 SiO$_2$ Gel 의 구조 해석에 관한 연구
- ㆍ 저자명
- 윤대현,김기선,정현채,Yoon. dai Hyun,Kim. Ki Sun,Jung. Hyun Chai
- ㆍ 간행물명
- 대한화학회지
- ㆍ 권/호정보
- 1990년|34권 5호|pp.413-417 (5 pages)
- ㆍ 발행정보
- 대한화학회
- ㆍ 파일정보
- 정기간행물| PDF텍스트
- ㆍ 주제분야
- 기타
Sol-gel법을 통하여 만들어진 비정질 SiO$_2$ gel들의 구조가 열처리 온도, 80$^{circ}C$, 250$^{circ}C$, 450$^{circ}C$ 그리고 1000$^{circ}C$에 따라 변화하는 과정을 X-선 회절 강도 측정으로부터 구한 동경분포곡선을 이용하여 알아보았다. 그리고 이를 6개의 결정들과 비교하여 예상되는 구조를 밝혔다. 각 시편들은 용융법으로 구한 SiO$_2$의 구조와 O-O결합쌍을 제외하고는 가장 유사한 구조를 가지며 cubic형으로 나타났다.
The structural variation process of amorphous SiO$_2$ gel upon heat-treatment conditions of 80, 250, 450 and 1000$^{circ}C$ has been studied by using the radial distribution functions (RDF$_{obs}$) estimated from the X-ray diffraction intensities. The expected gel structure was determined by comparing the RDF$_{obs}$ with those for the other six standard samples selected appropriately. The structure of specimens prepared by sol-gel method is well consistent with that of fused SiO$_2$ (${eta}$-cristobalite with cubic symmetry) except a slight difference in O-O band distance.