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Doping된 Ⅲ-Ⅴ族 化合物 半導體 界面에서 空間電荷效果
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  • Doping된 Ⅲ-Ⅴ族 化合物 半導體 界面에서 空間電荷效果
저자명
천장호,Chun. Jang-Ho
간행물명
전자공학회논문지
권/호정보
1990년|27권 2호|pp.93-97 (5 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

도핑된 半導體 界面의 界面電荷 近似式과 構造를 提案하였다. III-V族 化合物 半導體인 p-GaP,p-InP,n-GaAs와 <TEXT>$C_sNO_3$</TEXT> 水性 電解質 界面에서 整流現象은 循環電流-電壓特性으로 定性的 解析을 하였다. 半導體 界面의 電流-電壓 特性曲線, 이온 吸着과 電位障壁 過程은 連續循環電壓方法으로 實證하였다. 도핑된 半導體-電解質 界面에서 pn 또는 np 接合構造와 그에 따른 整流形은 空間電荷에 의하여 決定된다.

기타언어초록

Interfacil charge approximations and structures at doped semiconductor interfaces were proposed. Rectifying phenomena at the III-V compound semiconductor (p-GaP, p-InP, n-GaAs)/<TEXT>$CsNO_3$</TEXT> aqueous electrolyte interfaces were qualitatively analyzed in terms of their cyclic current-voltage characteristics. The current-voltage characteristic curves, the ion adsorption and potential barrier processes at the semiconductor interfaces were verified using continuous cyclic voltammetric methods. The pn or np junction structures and the related rectifying types at the doped semi-condudtor-electrolyte inferfaces are determined by the space charges.