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PACVD로 증착된 TiN 박막의 밀착성에 관하여
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  • PACVD로 증착된 TiN 박막의 밀착성에 관하여
  • Influence of Parameters on Adhesion Strength on TiN Film by using R.F. Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition
저자명
신영식,김문일,Shin. Y.S.,Kim. M.I.
간행물명
열처리공학회지
권/호정보
1990년|3권 1호|pp.17-24 (8 pages)
발행정보
한국열처리공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

In this study, TiN film was deposited onto steel by R.F.-PACVD in order to investigate the influence of parameters on the adhesion strength between film and substrate. Experimental results showed that adhesion strength by SAT is different from by optical microscopy. Adhesion strength is increased when the deposition temperature increases and is influenced by R.F. power and electrode distance. Especially heat treatment on the substrate has influenced over the adhesion strength, so it showed the 22 Newtons in adhesion strength by SAT and adhesion strength is decreased when deposition thickeness is thick and hardness is high. Also if the film is thick and high hardness simultaneous, the film was delaminated seriously.