기관회원 [로그인]
소속기관에서 받은 아이디, 비밀번호를 입력해 주세요.
개인회원 [로그인]

비회원 구매시 입력하신 핸드폰번호를 입력해 주세요.
본인 인증 후 구매내역을 확인하실 수 있습니다.

회원가입
서지반출
EFG법에 의한 ${gamma}-6Bi_2O_3 {cdot}SiO_2$(BSO)단결정의 육성
[STEP1]서지반출 형식 선택
파일형식
@
서지도구
SNS
기타
[STEP2]서지반출 정보 선택
  • 제목
  • URL
돌아가기
확인
취소
  • EFG법에 의한 ${gamma}-6Bi_2O_3 {cdot}SiO_2$(BSO)단결정의 육성
저자명
김호건,유건종
간행물명
한국결정성장학회지
권/호정보
1991년|1권 1호|pp.26-38 (13 pages)
발행정보
한국결정성장학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
서지반출

기타언어초록

광기능소자로 응용성이 넓은 전기광학결정 $r-6Bi_2O_3{cdot}SiO_2$(이하 BSO로 약칭)을 EFG(Edge-defined Film-fed Growth)법에 의하여 판상단결정으로 육성하는 기초적 조건을 조사하고 육성된 판단결정의 characterization 및 평가와 물성측정을 하였다. 본 연구에서 얻어진 최적성장조건은 온도구배가 $24^{circ}C/cm$, 인상속도는 2.0mm/h이었다. 결정성장 최적조건에서 육성된 BSO결정은 제 2상의 석출이 없고 grain boundary가 존재하지 않으며 X선 분석으로도 단결정임이 확인되었다. 육성된 판상단결정의 판면은 (100)면이었고 결정성장 방위는 <100>이었다. 육성된 판상단결정은 편광현미경하에서는 pore, void, inclusion, striation 등의 성장결함이 없는 양질의 단결정이었으나 미세결함인 전위(dislocation)의 존재가 확인되었고 전위밀도는 $5.1{ imes}10^5/ extrm{cm}^2$이었다.

기타언어초록

The fundamental conditions for growing $r-6Bi_2O_3{cdot}SiO_2$(BSO) single crystal plates by EFG(Edge-defined Film-fed Growth) method, were investigated and characterization, quality test, property measurement were performed for obtained BSO single crystal plates. The opti$mu$ growing conditions determined in this study were as follows: ${cdot}$temperature gradient;$24^{circ}C/cm$ ${cdot}$pulling rate;2.0mm/h. BSO Single crystal plates grown at the above optimum conditions did not include secondary phase or grain boundary and were confirmed as single crystals by X-ray analysis. IT was found that the single crystal plates had <100> growth direction. G defects, ie pore, void inclusion, striation, were not detected in the single crystal plate under polarizing microscope but dislocations(microscopic defect) were found and dislocation density was $5.1 imes10^5/cm^2$.