- 통계적 실험계획법을 이용한 SOG 평탄화 공정의 최적화
- ㆍ 저자명
- 임채영,박세근
- ㆍ 간행물명
- 韓國眞空學會誌
- ㆍ 권/호정보
- 1992년|1권 1호|pp.198-205 (8 pages)
- ㆍ 발행정보
- 한국진공학회
- ㆍ 파일정보
- 정기간행물| PDF텍스트
- ㆍ 주제분야
- 기타
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고집적 회로제작에 필수적인 평탄화 기술을 SOG를 이용하여 개발하였다. 1.5 micron double metal 기술의 공정변수들을 통계적 실험계획법을 적용하여 주요변수들을 찾 아내고 그들을 최적화하였다. 최적공적 조건은 SOG 도포 횟수는 2회, hot plate bake는 $300^{circ}C$에서 충분히, 그리고 furnace curing은 $400^{circ}C$ 이하에서 40분간 진행하는 것이었다.
Abstract-Planarieation technology, which is essential to VLSI, has been developed using non-etch back Spin- On-Glass (SOG). Process factors for 1.5 micron double metal technology are optimized by the statistical design of experiments. Optimum conditions are found to be a process with twice SOG coating, sufficiently long hot plate baking at 300t, and furnace curing for 40 minutes below 400$^{circ}$C.