- 1 keV $Ar^+$ 이온의 조사가 유리기판위의 금 박막의 미치는 영향
- ㆍ 저자명
- 장홍규,김기환,한성,최원국,고석근,정형진
- ㆍ 간행물명
- 韓國眞空學會誌
- ㆍ 권/호정보
- 1996년|5권 4호|pp.371-376 (6 pages)
- ㆍ 발행정보
- 한국진공학회
- ㆍ 파일정보
- 정기간행물| PDF텍스트
- ㆍ 주제분야
- 기타
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유리기판(BK7)에 5-cm cold-hollow cathode형 이온건(ion gun)을 이용한 sputtering 방법으로 금 박막을 1600$AA$ 두께 (RBS확인한 두께 : 1590 $AA$)로 증착하였다. 증착후 15$mu$A/$ extrm{cm}^2$의 이온전류밀도를 갖는 1 keV $Ar^+$ beam을 이용하여 $1 imes 10^{16};Ar^+ extrm{cm}^{-2}$에서 $2 imes 10^{17};Ar^+ extrm{cm}^{-2}$의 이온선량을 조사하였다. 박막제작시와 $Ar^+$이온조사시의 진공도는 $1 imes 10^{-6}-1 imes 10^{-5}$Torr이었으며, 기판온도는 상온으로 하였다. 금 박막은 $Ar^+$이온의 조사에 관계없이 모두 (111)방향만 관찰되었으며, $Ar^+$이온이 조사된 시료의 x-ray peak의 세기는 이온선량이 증가함에 따라 감소하였다. Rutherford Backscattering Spectroscopy(RBS) 측정결과 $Ar^+$ 이온선량이 증가함에 따라 sputtering yield는 감소하였다. $2 imes 10^{17};Ar^+ extrm{cm}^{-2}$의 이온선량이 조사된 시료는 두께가 711$AA$으로 이온의 조사에 의해 Au 박막이 879$AA$ sputter된 것을 확인하였으며, 이 때 sputtering yield는 2.57이었다. Atomic Force Microscope(AFM) 측정 결과 이온선량이 증가함에 따라 Au 박막의 Rms표면 거칠기는 16$AA$에서 118$AA$으로 증가하였다. 또한 Scratch test를 이용한 박막의 접착력 측정결과 이온선량이 증가함에 따라 유리기판위에 Au박막의 접착력은 1.1N에서 10N으로 9배 이상 증가하였다. 이상의 결과로부터 낮은 에너지의 이온선을 조사하여 유리기판고 금 박막사이에 좋은 접착력을 갖는 박막을 제작할 수 있었다.
Au films with a thickness around 1600 $AA$ were deposited onto glass at room temperature by ion beam sputtering with a 5 cm cold-hollow ion gun at pressure $1 imes 10^{-6}-1 imes 10^{-5}$ Torr. Irradiation of the Au deposited samples was carried out at pressure of $7 imes 10^{-6}$ Torr. For the sputter depositions, $Ar^+$ ion energy was 1 keV, and the current density at the substrate surface was 15 $mu$A/$ extrm{cm}^2$. Effects of 1 keV $Ar^+$ ion dose($I_d$) between $1 imes 10^{16}; and;2 imes 10^{17};Ar^+ extrm{cm}^{-2}$on properties such as crystallinity, surface roughness and adhesion, etc. of the films have been investigated. The Au films sputtered by $Ar^+$ ion beam had only (111) plane and the X-ray intensity of the films decreased with increase of $I_d$. The thickness of Au films reduced with Id. $R_{ms}$ surface roughness of the films increased from 16 $AA$ at as-deposited to 1118 $AA$ at ion dose= $2 imes 10^{17};Ar^+ extrm{cm}^{-2}$. Adhesion of Au film on sputtered at $I_d$= $2 imes 10^{17};Ar^+ extrm{cm}^{-2}$ was 9 times greater than that of Au film with untreated, as determined by a scratch test.