열처리 특성의 연구는 열형광선량계를 재 사용하는데 있어서 중요하다. 최근 개발된 디스크 형태 (직경 4.5 mm, 두께 약 $90mg/cm^2$)의 LiF:Mg,Cu,Na,Si Teflon TLD의 열처리 조건을 구하기 위하여 조사전열처리, 판독과정 및 판독 후 열처리의 순서로 연구하였다. Teflon TLD의 감마선 조사는 $^{60}Co$ 0.1 Gy로 하였다. LiF:Mg,Cu,Na,Si Teflon TLD의 열처리 특성의 연구는 전기로와 판독장치를 이용하여 열처리 온도와 열처리 시간을 변화시키면서, 측정반복횟수에 따른 열형광강도 변화를 관찰하는 방법으로 수행하였다. LiF:Mg,Cu,Na,Si Teflon TLD의 열처리 조건은 조사전 열처리를 $80^{circ}C$에서 1 시간 한 후 $280^{circ}C$까지 판독하고 판독 후 열처리를 $270^{circ}C$에서 20 초간 하는 것으로 결정되었고, 이 조건에서 10 회 반복측정시 원래의 열형광강도는 5%의 감소를 보였다.
The study of anneal characteristics is important for TL dosimeter to reuse. To obtain the annealing condition of the recently developed, new TL dosimeter, LiF:Mg,Cu,Na,Si Teflon Tills in a disk type (diameter 4.5 mm, thickness about $90mg/cm^2$), we studied for pre-irradiation annealing, readout procedure and post-readout annealing, in order. The gamma irradiations were carried out with a $^{60}Co$, dose of 0.1 Gy. We have used the method that observe the variation of thermoluminescent(TL) intensity of these Teflon TLDs over repeated cycles by changing both anneal temperature and anneal time with the TLD reader and the oven. There is a 5% loss in sensitivity over the ten repeated readouts by the annealing condition:pre-irradiation annealing at $80^{circ}C$ for one hour, readout to $280^{circ}C$ and post-readout annealing at $270^{circ}C$ for 20 seconds.
