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질화처리에 의한 기판 평면 평활도의 변화가 GaN 성장에 미치는 영향
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  • 질화처리에 의한 기판 평면 평활도의 변화가 GaN 성장에 미치는 영향
저자명
정재식,변동진,김병화,이재인,유지범,금동화,Jeong. Jae-Sik,Byeon. Dong-Jin,Kim. Byeong-Hwa,Lee. Jae-In,Yu. Ji-Beom,Geum. Dong-Hwa
간행물명
한국재료학회지
권/호정보
1997년|7권 11호|pp.986-990 (5 pages)
발행정보
한국재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

LED와 LD의 수명과 효율은 결정에 존재하는 결함의 밀도에 반비례하며, 이러한 결함의 밀도는 적당한 기판을 사용하거나, 기판의 표면을 적절하게 제어함으로써 줄일 수 있다. GaN성장시 원자 단위의 매끄러운 표면은 완충충 성장이나 질화처리를 함으로써 얻어질 수 있다. 이렇게 얻어진 원자 단위의 매끄러운 표면에 의해 기판과 박막상이의 계면 자유에너지가 감소하기 때문에 2D성장이 촉진된다. 사파이어(AI$_{2}$O$_{3}$(0001))기판을 사용한 GaN 왕충충성장과 진화처리에 대한 최적조건은 AFM(Atomic Force Microscope)측정 결과에 의해 결정되었다. AFM에 의해 얻어진 표면 평활도의 개념은 사파이어 기판을 사용한 GaN박막성장의 최적조건을 결정하는 데 있어서 높은 신뢰도를 가질 수 있다.