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Electroreflectance 측정에 의한 Si이 첨가된 $Al_{0.32}Ga_{0.68}As$에서의 $E_1$ 전이에 대한 연구
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  • Electroreflectance 측정에 의한 Si이 첨가된 $Al_{0.32}Ga_{0.68}As$에서의 $E_1$ 전이에 대한 연구
저자명
김동렬,손정식,김근형,이철욱,배인호
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
1998년|11권 9호|pp.687-692 (6 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Silicon doped $Al_{0.32}Ga_{0.68}As$ were growth by molecular beam epitaxy. Electroreflectance(ER) spectra of the $E_1$ transition of Schottky barrier Au/n-$Al_{0.32}Ga_{0.68}As$ have been measured at various modulation voltage($V_{ac}$) and dc bias voltage($V_{bias}$). from the $E_1$peak, band gap energy of the $Al_{0.32}Ga_{0.68}As$ is 1.883 eV which corresponds to an Al composition of 32%. As modulation voltage($V_{bias}$) is changed, a line shape at the $E_1$transition does not change, but its amplitude varies linearly. The amplitude of $E_1$signal decrease with increasing the forward dc bias voltage($V_{bias}$), but the line shape does not change. It suggests that the low field theory rather than Franz-Keldysh oscillation is Required to interpret spectra. Also, spectra at the $E_1$transition were broadened with increasing the reverse dc bias voltage($V_{bias}$) which suggests the presence of Field-induced broadening.