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레이저 에블레이션법으로 제작된 PLZT 박막의 구조 및 전기적 특성에 관한 연구
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  • 레이저 에블레이션법으로 제작된 PLZT 박막의 구조 및 전기적 특성에 관한 연구
저자명
장낙원,마석범,백동수,최형,박창엽
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
1998년|11권 10호|pp.866-870 (5 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

PLZT thin films were fabricated with different Zr/Ti ratios by pulsed laser deposition. PLZT films deposited on Pt/Ti/SiO$_2$/Si substrate. This PLZT thin films of 5000$AA$ thickness were crystallized at $600^{circ}C$, $O_2$ pressure 200m Torr. 2/55/45 PLZT thin film showed a maximum dielectric constant value of $varepsilon$ulcorner=1550 and dielectric loss was 0.03 at 10kHz. At 2/70/30 PLZT thin film, coercive field and remnant polarization was respectively 19[kV/cm], 8[$mu$C/$ extrm{cm}^2$]. Raman spectroscopy results showed that the bands of spectra became broader as the amount of Zr mol% increased and two crystal phase coexisted at 2/55/45 PLZT film. Raman spectroscopy was useful for crystal structure analysis of PLZT thin films.