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고휘도 백색방출 전계발광소자의 제작 및 특성
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  • 고휘도 백색방출 전계발광소자의 제작 및 특성
저자명
배승춘,김정환,박성근,권성렬,김우현,김기완,Bae. Seung-Choon,Kim. Jeong-Hwan,Park. Sung-Kun,Kwun. Sung-Yul,Kim. Woo-Hyun,Kim. Ki-Wan
간행물명
센서학회지
권/호정보
1999년|8권 1호|pp.10-15 (6 pages)
발행정보
한국센서학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

ZnS 형광체와 BST 강유전체 박막을 절연층으로 사용한 백색방출 전계발광소자를 제작하였다. BST 박막의 제조조건으로 target의 조성비가 $Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$이며, 기판온도가 $400^{circ}C$, 분위기압이 30 mTorr, A:$O_2$의 비가 9:1일때 유전율이 1 kHz의 주파수에서 209를 나타내었다. 형광층으로 ZnS:Mn, ZnS:Tb 및 ZnS:Ag를 사용하였으며, 활성제 각각의 첨가량은 0.8, 0.8 및 1 wt%로 하였다. 형광층 전체의 두께가 500 nm로 하고 하부 절연층을 200 nm, 상부절연층을 400 nm로 증착하였을 때, 박막 전계발광소자의 발광문턱전압은 약 95 V 였고, 최고휘도는 150 V에서 약 $3000;cd/m^2$이었다. 발광스펙트럼를 관찰한 결과 청색영역(450 nm), 녹색영역(550 nm) 그리고 적색영역(600 nm)의 파장에서 각각의 피이크가 나타나는 것을 관찰하였다.

기타언어초록

White emission thin film electroluminescent device was fabricated using ZnS for phosphor layer and BST ferroelectric thin film for insulating layer. For fabrication conditions of BST thin film, stoichiometry of target was $Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$, substrate temperature was $400^{circ}C$, working pressure was 30 mTorr, and A:$O_2$ ratio was 9:1. At this time, dielectric constant was 209 at 1kHz frequency. For phosphor layer ZnS:Mn, ZnS:Tb, and ZnS:Ag were used. Mixing rates of activators were respectively 0.8, 0.8, and 1 wt%. Total thickness of phosphor tapers was 500 nm, thickness of lower insulating layer was 200 nm, and thickness of upper insulating layer was 400 nm. In this conditions, luminescence threshold voltage of thin film electroluminescent device was $95;V_{rms}$, maximum brightness was $3,000;cd/m^2$ at $150;V_{rms}$. Luminescence spectrum peak was observed at region of blue(450 nm), green(550 nm), and red(600 nm).