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데칸술폰이 삽입된 니켈 화합물의 층상 구조의 열적 성질
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  • 데칸술폰이 삽입된 니켈 화합물의 층상 구조의 열적 성질
저자명
허영덕,전태현,박용준
간행물명
한국결정성장학회지
권/호정보
1999년|9권 6호|pp.580-584 (5 pages)
발행정보
한국결정성장학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

수화된 니켈에 데칸술폰이 층간 삽입된 화합물을 합성한 후 성질을 확인하였다. 화합물의 층상구조는 고온 X-선 회절 데이터로 확인하였다. 온도가 증가하면 층간 삽입된 니켈화합물의 구조가 변하는 것과 동시에 화합물의 층 거리가 24.7 $AA$에서 30.5 $AA$가지 증가하였다. X-선 회절 데이터와 데칸술폰의 크기로부터 니켈 층에 결합된 데칸술폰의 공간배열을 결정하였다. 이중 층 구조를 가진 데칸술폰의 분자 축은 니켈 층에 경사진 각도로 수직하게 배열되어있다.

기타언어초록

The synthesis and characterization of intercalated compound of decansulfonate into hydrated nickel is presented. The compound shows a layered structure as determined by high temperature powder X-ray diffraction (HTXRD). The layer distance of the product is increased from 24.7 $AA$ to 30.5 $AA$ by increasing the temperature which is in turn accomplished by changing the structure of the intercalated nickel compound. From the X-ray diffraction data and the decanesulfonate size, the orientation of the decanesulfonate onto the nickel layer is determined. The molecular axis of the decanesulfonate with bilayer structure is tilted to the perpendicular of the nickel layer.