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Hot-wall epitaxy에 의한 Zn-chalcogenide 에피층의 성장 및 구조적 특성
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  • Hot-wall epitaxy에 의한 Zn-chalcogenide 에피층의 성장 및 구조적 특성
저자명
유영문,남성운,이종광,오병성,이기선,최용대,이종원
간행물명
韓國眞空學會誌
권/호정보
1999년|8권 |pp.470-475 (6 pages)
발행정보
한국진공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

ZnS and ZnTe epilayers were grown on GaAs(100) GaP(100) substrates by hot-wall eitaxy. X-ray diffraction revealed that the epilayers have zinc-blende structure and were grown in (100) direction. The small values of the full width at half maximum (FWHM) of double crystal rocking curve (DCRC) showed high quality of the epilayers. From the thickness dependence of the FWHM of DCRC, the strain remaining in films is found to be due to the thermal expansion difference as well as due to the lattice mismatch.