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리플로 공정 후에 형성된 In과 Au/Ni/Ti 다층 박막의 계면 구조의 TEM 분석
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  • 리플로 공정 후에 형성된 In과 Au/Ni/Ti 다층 박막의 계면 구조의 TEM 분석
저자명
조원구,김영호,김창경
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
1999년|32권 4호|pp.503-512 (10 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

The crystal structure and the microstructure of the intermetallic compounds formed in the interface between In solder and Au/Ni/Ti thin films have been investigated by XRD, SEM, and TEM. Indium solder was deposited on the Au/Ni/Ti thin films/Si substrate by evaporation. The heat treatments simulated the flip chip solder joining were performed in RTA system or in furnace. $Auln_2$ phase is formed in all specimens.$ In_{27}$ $Ni_{10}$ and/or $In_{X}$ $Ni_{Y}$ phase are formed in the interface between $Auln_2$ and Ni depending the heat treatment conditions.