목적 전신피부 전자선 치료시 두정부의 scalp는 항상 사방향으로 입사된다. 본 연구는 두정부에서의 선량균등성을 향상시키기 위한 목적으로 본원에서 자체 제작한 전자선 반사체(electron reflector)를 두정부의 scalp 위치에 놓아 반사되는 전자선을 이용하여 선량변화를 조사하고 전자선 반사체의 효용성을 평가하고자 한다. 대상 및 방법 두정부에서의 선량측정은 6MeV 전자선을 이용한 전리조(ion-chamber)와 열형광선량계(TLD)를 사용하였고, 산란되는 전자선의 영향을 평가하기 위해 자체 제작한 $40{ imes}40cm^2$, 1 mm 두께의 전자선 반사체를 팬톰위에 위치시켜 선량을 측정하였다 결과 두정부에서의 표면선량은 전자선 반사체를 사용하지 않았을 때에 $37.8\%$로 나타났으며, 이에 반해 반사체를 사용하였을 때는 $62.2\%$의 선량증가를 나타내었다. 결론 일반적으로 시행되는 전신피부전자선조사는 두정부에서의 under-dose를 확인할 수 있었고, 본원에서 자체 제작한 전자선 반사체 사용시 두정부에서의 선량 균등성이 향상되어 추가적인 치료가 필요치 않을 것으로 생각된다.
Purpose : The vertex scalp is always tangentially irradiated during total skin electron beam(TSEB) This study was discuss to the dose distribution at the vertex scalp and to evaluate the use of an electron reflector. positioned above the head as a means of improving the dose uniformity. Methods and Materials Vetex dosimetry was performed using ion-chamber and TLD. Measurements were 6 MeV electron beam obtained by placing an acrylic beam speller in the beam line. Studies were performed to investigate the effect of electron scattering on vertex dose when a lead reflector $40{ imes}40cm$ in area, was positioned above the phantom. Results : The surface dose at the vertex, in the without of the reflector was found to be less than $37.8\%$ of the skin dose. Use of the lead reflector increased this value to $62.2\%$ for the 6 MeV beam. Conclusion : The vertex may be significantly under-dosed using standard techniques for total skin electron beam. Use of an electron reflector improves the dose uniformity at the vertex and may reduce or eliminate the need for supplemental irradiation.
