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Evaluation of Sticking Coefficient in BSCCO Thin Film Fabricated by Co-sputtering
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  • Evaluation of Sticking Coefficient in BSCCO Thin Film Fabricated by Co-sputtering
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저자명
Lee. Hee-Kab,Park. Yong-Pil,Lee. Kwon-Hyun,Lee. Joon-Ung
간행물명
전기전자재료학회논문지
권/호정보
2000년|13권 1호|pp.80-84 (5 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

BSCCO thin films are fabricated via a co-deposition process by an ion beam sputtering with an ultra-low growth rate, and sticking coefficients of the respective elements are evaluated. The sticking coeffi-cient of Bi element exhibits a characteristic temperature dependence : almost a constant value of 0.49 below 73$0^{circ}C$ and decreases linearly with temperature over 73$0^{circ}C$. This temperature dependence can be elucidated from the evaporation and sublimation rates of bismuth oxide, BiulcornerOulcorner, from the film surface. It is considered that the liquid phase of the bismuth oxide plays an important role in the Bi(2212) phase formation in the co-deposition process.