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Properties of $Sr_{0.8}Bi_{2.3}{(Ta_{1-x}Nb_{x})}_{2}O_{9+{alpha}}$ Thin Films
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  • Properties of $Sr_{0.8}Bi_{2.3}{(Ta_{1-x}Nb_{x})}_{2}O_{9+{alpha}}$ Thin Films
  • Properties of $Sr_{0.8}Bi_{2.3}{(Ta_{1-x}Nb_{x})}_{2}O_{9+{alpha}}$ Thin Films
저자명
Park. Sang-Jun,Jang. Gun-Eik
간행물명
Transactions on electrical and electronic materials
권/호정보
2000년|1권 1호|pp.22-25 (4 pages)
발행정보
한국전기전자재료학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

Polycrystalline SBTN layered ferroelectric thin film with various Nb mole ratios were prepared by sol-gel method Pt/ $SiO_2$/Si (100) substrates. The films were annealed at different temperature and characterized in terms of phase and microstructure. The films were crystallized with a high (105) diffraction intensity and had rodike structure, SBTN films fired at 800$^{circ}C$ revealed standard hysteresis loops with no fatigue for up to 10$^{10}$ cycles. At an applied voltage of 5V the dielectric constant($varepsilon$) , dissipation factor (tan $delta$), remanent polarization(ZPr) and coercive field(Ec) of typical S $r_{0.8}$B $i_{2.3}$(T $a_{1-x}$ N $b_{x}$) $O_{9+}$$alpha$/ thin film(x=0.1) prepared on Pt/ $SiO_2$/Si (100) were about 277.7, 0.042, 3.74$mu$C/$textrm{cm}^2$, and 24.8kv/cm respectively.ly.y. respectively.ly.y.y..