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(N-docosyl quinolinium)-TCNQ(1:2) 전하 이동 착물 Langmuir-Blodgett막의 누적 및 전기적 특성
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  • (N-docosyl quinolinium)-TCNQ(1:2) 전하 이동 착물 Langmuir-Blodgett막의 누적 및 전기적 특성
  • Deposition and Electrical Properties of (N-docosyl quinoliniurm)-TCNQ(1:2) Charge Transfer Complex Langmuir-Blodgett Films
저자명
정순욱,정회걸,Jeong. Soon-Wook,Jeong. Hwae-Gul
간행물명
한국유화학회지
권/호정보
2000년|17권 1호|pp.29-35 (7 pages)
발행정보
한국유화학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

In this study, ultra-thin films of (N-docosyl quinolinium)-TCNQ(1:2) complex were prepared on the hydrophilic substrate by Langmuir-Blodgett(LB) technique. The characteristics of ${pi}-A$ isotherms were studied to find optimum conditions of deposition by varying temperature of subphase, compression speed of barrier and amount of spreading solution. Using UV-vis spectra, capacitance and thickness, deposition of LB films was confirmed together with the thickness of the naturally oxidized aluminum film inside a device and dielectric constant of (N-docosyl quinolinium)-TCNQ(1:2) complex. The dielectric constant of LB film was about $4.59{sim}5.58$. The electrical properties of (N-docosyl quinolinium)-TCNQ(1:2) complex were investigated at room temperature. The conductivity of this film measured by the direction of either vertical or horizontal axis was found to have a quite different value.