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열처리에 따른 Pb[(Zr,Sn)Ti]N$bO_3$ 박막의 강유전 특성
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  • 열처리에 따른 Pb[(Zr,Sn)Ti]N$bO_3$ 박막의 강유전 특성
저자명
최우창,최혁환,이명교,권태하,Choe. U-Chang,Choe. Hyeok-Hwan,Lee. Myeong-Gyo,Gwon. Tae-Ha
간행물명
電子工學會論文誌. Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea. SD, 반도체
권/호정보
2001년|38권 7호|pp.473-478 (6 pages)
발행정보
대한전자공학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

강유전 물질인 Pb0.99[(Zr06Sn0.4)/0.9/Ti0.1]0.98/Nb0.02O₃(PNZST) 박막을 10 mole%의 과잉 PbO가 첨가된 타겟을 이용하여 La0.5Sr0.5CoO₃(LSCO)/Pt/Ti/SiO₂/Si 기판상에 RF 마그네트론 스퍼터링 방법으로 증착하였다. 증착된 박막에 대하여 온도와 시간을 다양하게 변화시키면서 급속 열처리(rapid thermal annealing) 한 후, 그 결정성과 전기적 특성을 조사하였다. 80 W의 RF 전력, 500 ℃의 기판온도에서 증착한 후, 급속 열처리된 박막이 페로브스카이트상으로 결정화되었으며, 650 ℃, 공기중에서 10초동안 급속 열처리된 박막이 가장 우수한 결정성을 나타내었다. 이러한 박막으로 제작된 PNZST 커패시터는 약 20 μC/㎠정도의 잔류 분극과 약 50 kV/cm 정도의 항전계를 나타내었으며, 2.2×109의 스위칭 후에도 잔류분극의 감소는 10 %미만이었다.

기타언어초록

Ferroelectric P $b_{0.99}$[(Z $r_{0}$ 6S $n_{0.4}$)/0.9/ $Ti_{0.1}$]0.98/N $b_{0.02}$ $O_3$(PNZST) thin films were deposited by a RF magnetron sputtering on L $a_{0.5}$S $r_{0.5}$Co $O_3$(LSCO)/Pt/Ti/ $SiO_2$/Si substrate using a PNZST target with excess PbO of 10 mole%. The crystallinity and electrical properties of the thin films annealed at various temperature and time were investigated. The thin films deposited at the substrate temperature of 500 $^{circ}C$ and the power of 80 W were crystallized to a perovskite phase after rapid thermal annealing(RTA). The thin films annealed at 650 $^{circ}C$ for 10 seconds in air exhibited the good crystal structures. The remanent polarization and coercive field of the PNZST capacitor were about 20 $mu$C/$ extrm{cm}^2$ and 50 kV/cm, respectively. The reduction of the polarization after 2.2$ imes$10$^{9}$ switching cycles was less than 10 %..10 %......