Silica Sulfuric Acid/Wet $SIO_2$as a Novel System for the Deprotection of Acetals by Using Microwave Irradiation under Solvent Free Conditions

Silica Sulfuric Acid/Wet $SIO_2$as a Novel System for the Deprotection of Acetals by Using Microwave Irradiation under Solvent Free Conditions
Silica Sulfuric Acid/Wet $SIO_2$as a Novel System for the Deprotection of Acetals by Using Microwave Irradiation under Solvent Free Conditions

ㆍ 저자명: BiBi Fathemeh. Mirjalili,Mohammad Ali. Zolfigol,Abdolhamid. Bamoniri
ㆍ 간행물명: 대한화학회지
ㆍ 권/호정보: 2001년|45권 6호|pp.546-548 (3 pages)
ㆍ 발행정보: 대한화학회
ㆍ 파일정보: 정기간행물|ENG|
PDF텍스트
ㆍ 주제분야: 기타

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서지반출

영문초록

클로로술폰산을 실리카겔과 반응시키면 실리카겔 표면에 황산이 공유결합으로 고정된 실리카황산을 얻게 된다. 무용매 조건하에서 마이크로웨이브를 쪼여주면서 실리카 황산과 젖은 $SiO_2$를 함께 사용하게 되면 아세탈을 화합물로 변화시키는 효과적인 탈아세탈 시약으로 사용할 수 있다.

기타언어초록

Neat chlorosulfonic acid reacts with silica gel to give silica sulfuric acid in which sulfuric acid is immobilized on the surface of silica gel via covalent bond. A combination of silica sulfuric acid and wet SiO$_2$ was used as an effective deacetalizating agent for the conversion of acetals to their corresponding carbonyl derivatives by using microwave irradiation under solvent free conditions.

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