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반도체 노광공정에 이용되는 엑시머 레이저의 기술 현황 및 시장 동향
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  • 반도체 노광공정에 이용되는 엑시머 레이저의 기술 현황 및 시장 동향
저자명
이형권
간행물명
광학세계
권/호정보
2002년|14권 3호|pp.51-53 (3 pages)
발행정보
한국광학기기협회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

2002년 초에 Dataquest에 의해 발표된 시장전망에 의하면, 2003년 이후 3$~$4년간 엑시머 레이저를 이용한 DUV 노광장비 시장은 큰 폭으로 확대될 것으로 전망하고 있으며, DRAM 수요의 증가와 12인치(300mm) 공정의 가속화가 그 예상을 뒷받침 하고 있다. 특히, KrF엑시머 레이저 공정 이후에 도입될 ArF엑시머 레이저 시장의 확대가 주목된다.