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Plasma Aided Process As Alternative to Hard Chromium Electroplating
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  • Plasma Aided Process As Alternative to Hard Chromium Electroplating
  • Plasma Aided Process As Alternative to Hard Chromium Electroplating
저자명
Kwon. Sik-Chol,Lee. K.H.,Kim. J.K.,Kim. M.,Lee. G.H.,Nam. K.S.,Kim. D.,Chang. D.Y.
간행물명
한국표면공학회지
권/호정보
2003년|36권 1호|pp.48-58 (11 pages)
발행정보
한국표면공학회
파일정보
정기간행물|ENG|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

This paper will present an overview of toxicity of hexavalent chromium as well as effort for its replacement by a wide spectrum of alternative materials and technologies. Cr-based materials such as trivalent electrodeposit will be one of strong candidates for hard chromium by surface modification of its surface hardness. Ni-base alloy deposits has proved its application in specific mold for glass. HVOF has been studied in aircraft and military sector. There are still under way of development for commercially available alternatives. To date, no single coating has been identified as universal process as comparable to conventional hard chromium electroplating.