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촉매금속(Ni-Cu)의 적층 증착법에 의한 탄소나노튜브의 성장
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  • 촉매금속(Ni-Cu)의 적층 증착법에 의한 탄소나노튜브의 성장
저자명
배성규,이세종,조성진,이득용
간행물명
한국세라믹학회지
권/호정보
2004년|41권 3호|pp.247-252 (6 pages)
발행정보
한국세라믹학회
파일정보
정기간행물|
PDF텍스트
주제분야
기타
이 논문은 한국과학기술정보연구원과 논문 연계를 통해 무료로 제공되는 원문입니다.
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기타언어초록

노튜브의 길이는 급격히 증가하였지만 촉매금속의 적층방법에 따른 탄소나노튜브의 성장 형태는 큰 차이가 없었다. 특히, ICBD 방법에 의해 Ni 촉매금속을 증착한 경우 다른 방법에 비하여 직선적인 탄소나노튜브가 관찰되었다. ^x Carbon nanotubes were grown on SiO$_2$/Si substrates by applying $C_2$H$_2$ gas through chemical vapor deposition process. It was found that carbon nanotubes were grown successfully on the substrates with catalytic films under 20 $AA$ total thickness. The increase in reaction temperature from 50$0^{circ}C$ to 80$0^{circ}C$ resulted in longer carbon nanotube, but there was no clear tendencies with different types of catalytic layers. It was evident that carbon nanotubes became more straight on the substrate with Ni catalytic film produced by ICBD method.